SOLUCIONES

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua: Las aguas residuales de la fabricación de PCB rígidas (placas de circuito impreso) se generan principalmente durante el rectificado del sustrato, perforación y eliminación de polvo, desengrase ácido/ alcalino, cobreado químico...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua: Las aguas residuales de PCB flexibles (FPC) se generan principalmente durante la perforación, el cobreado químico, la electrodeposición, el grabado seco y húmedo, el revelado y el desprendimiento, el acabado superficial...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua: Las aguas residuales lácteas se generan principalmente durante el pretratamiento de leche cruda, la pasteurización, la fermentación y la mezcla, la producción de yogur y leche en polvo, la limpieza de equipos de llenado, la limpieza en sitio (CIP)...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales de cervecerías se generan principalmente durante la maceración de la malta, la fermentación y la elaboración de cerveza, el lavado de botellas, la limpieza de equipos, el lavado de posos de granos y las operaciones de limpieza del suelo de la planta...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales de productos químicos finos se generan principalmente durante la producción de intermedios farmacéuticos, colorantes y pigmentos, recubrimientos, aromas y fragancias, síntesis de productos químicos especializados...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales químicas de alta salinidad se generan ampliamente en la industria de productos químicos finos, productos químicos farmacéuticos, procesamiento químico del carbón, producción de sales inorgánicas y circuitos de refrigeración química...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales generadas durante la fabricación de semiconductores de carburo de silicio (SiC) y nitruro de galio (GaN) provienen principalmente del crecimiento epitaxial, el grabado, la implantación iónica, etc.

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales de lodos de CMP (planarización químico-mecánica) constituyen un efluente crítico generado durante la fabricación de obleas semiconductoras. Su origen principal es el uso de productos químicos...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales generadas durante la fabricación de baterías para vehículos eléctricos provienen principalmente de procesos clave de producción, como los materiales NCM (niquel-cobalto-manganeso) y fosfato de litio y hierro...

1. Fuentes de aguas residuales, contaminantes típicos y características del agua. Las aguas residuales generadas durante la fabricación de baterías para almacenamiento de energía provienen principalmente de seis etapas clave de producción: síntesis de material catódico, recubrimiento de electrodos, llenado de electrolito...