ソリューション

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　剛性基板（プリント配線板：PCB）製造工程における排水は、基板の研磨、穴開けおよび粉塵除去、酸・アルカリ脱脂、無電解銅めっきなどの工程で主に発生します…

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　フレキシブル基板（FPC）製造工程における排水は、穴開け、無電解銅めっき、電気めっき、ドライエッチングおよびウェットエッチング、現像・剥離、表面処理などの工程で主に発生します…

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　乳製品工場排水は、生乳の前処理、殺菌、発酵・混合、ヨーグルトおよび乳粉の製造、充填機器の洗浄、CIP（クリーン・イン・プレイス）…などの工程で主に発生します

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　ビール醸造所の排水は、主に麦芽の糖化、発酵・醸造、瓶洗浄、機器洗浄、使用済み穀物の洗浄、工場床面の清掃などの工程から発生します。

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　ファインケミカル排水は、主に医薬中間体、染料・顔料、塗料、香料・香精、特殊化学品の合成など製造工程で発生します。

1. 排水発生源、代表的な汚染物質および水質特性　高塩分化学排水は、ファインケミカル、医薬品関連化学品、石炭化学、無機塩類製造、化学循環冷却水など多様な工程で広く発生します。

1. 排水の発生源、代表的な汚染物質および水質特性　炭化ケイ素（SiC）および窒化ガリウム（GaN）半導体製造工程から発生する排水は、主にエピタキシャル成長、エッチング、イオン注入…から生じます。

1. 排水の発生源、代表的な汚染物質および水質特性　CMP（化学機械研磨）スラリー排水は、半導体ウェーハ製造工程において重要なプロセス排水です。主に化学的…から発生します。

1. 排水の発生源、代表的な汚染物質および水質特性　EV用バッテリー製造工程から発生する排水は、主にNCM（ニッケル・コバルト・マンガン系）およびリン酸鉄リチウム（LFP）などの正極材製造を含む主要な生産工程から生じます。

1. 廃水の発生源、典型的な汚染物質および水質特性　エネルギー貯蔵用バッテリー製造工程における廃水は、主に正極材合成、電極コーティング、電解液充填…などの6つの主要な製造工程で発生します。