1. Sumber Air Sisa, Pencemar Lazim & Ciri-ciri Air
Air sisa yang dihasilkan daripada pembuatan semikonduktor karbon silikon (SiC) dan galium nitrida (GaN) terutamanya berasal daripada proses pertumbuhan epitaksial, pengukiran, penanaman ion, pemendapan lapisan nipis, pengisaran wafer dan pembersihan, serta proses pembilasan bilik bersih. Berbanding dengan air sisa semikonduktor silikon konvensional, air sisa semikonduktor generasi ketiga mempunyai komposisi yang jauh lebih kompleks dan jauh lebih sukar dirawat.
Bahan pencemar lazim termasuk fluorida, kepekatan asid dan alkali yang tinggi, zarah karbon silikon ultra-halus, sebatian galium, nitrida, ion logam berat dalam kuantiti jejak, serta jumlah kecil bahan organik pencemar seperti residu fotorezist dan bahan kimia peluntur, yang mengakibatkan tahap COD yang tidak stabil.
Air sisa dicirikan oleh aliran berasid kuat dan beralkali secara bergilir, kepekatan fluorida yang tinggi, pepejal terampai ultra-halus, dan sifat sangat korosif. Zarah koloid stabil mengendap dengan sangat perlahan, meningkatkan risiko pendapan dalam paip dan penyumbatan membran. Selain itu, pembuatan semikonduktor jalur lebar memerlukan air kitar semula ultra-tulen, dengan piawaian kualiti air yang jauh lebih ketat berbanding rawatan air sisa industri konvensional.
2. Cabaran Pelanggan yang Lazim
Pengilang semikonduktor SiC dan GaN biasanya menghadapi beberapa cabaran dalam rawatan air sisa.
Zarah-zarah SiC dan GaN ultra-halus sukar diasingkan melalui pemendapan konvensional, menyebabkan pengumpulan lumpur, penyumbatan peralatan, pendaraban membran yang kerap berlaku, dan henti pengeluaran yang mahal. Air sisa berfluorida tinggi yang dihasilkan semasa proses pengukiran sukar dirawat secara konsisten, menjadikan pematuhan terhadap piawaian pembuangan alam sekitar yang semakin ketat menjadi mencabar.
Proses pengeluaran ini juga menghasilkan aliran air sisa berasid dan beralkali secara bergantian dengan tahap kekorosifan yang tinggi, maka memerlukan peralatan tahan korosi khas berbanding sistem industri biasa. Pada masa yang sama, pengilang semikonduktor menuntut kadar pemulihan air ultra-tulen yang sangat tinggi, manakala teknologi rawatan konvensional sering gagal memenuhi kualiti air yang diperlukan, menyebabkan penggunaan air tawar yang berlebihan serta kos operasi yang lebih tinggi.
Selain itu, kilang semikonduktor moden biasanya mempunyai ruang pemasangan yang terhad dan talian pengeluaran yang berkembang dengan pesat, menjadikan kemudahan rawatan berskala besar konvensional sukar untuk dikembangkan atau dikemaskini. Akibatnya, terdapat permintaan yang semakin meningkat terhadap sistem rawatan air sisa yang padat, modular, dan sepenuhnya disesuaikan khusus untuk pembuatan semikonduktor berketepatan tinggi.
3. Proses Rawatan & Konfigurasi Peralatan Utama
Untuk mengatasi kandungan fluorida yang tinggi, zarah ultra-halus, dan sifat korosif air sisa SiC dan GaN, kami menggunakan proses rawatan khusus yang terdiri daripada:
Pengumpulan Terpisah → Penyesuaian pH Secara Ketepatan & Penstabilan Koloid → Penggumpalan & Penyingkiran Fluorida → Penurasan Halus → Pemurnian Membran Lanjutan → Penggunaan Semula Air Ultrapure
Aliran air sisa berasid, beralkali, mengandungi fluorida, dan proses dikumpul dan diseimbangkan secara berasingan untuk meminimumkan turun naik hidraulik dan kualiti air.
Penyerapan karbon aktif dan penapisan tepat menghilangkan sebatian organik jejak dan kontaminan logam baki. Air yang telah dirawat kemudian melalui sistem Penurasan Ultra (UF), diikuti oleh sistem Osmosis Songsang (RO) tahan-pelapukan untuk pendesalinan mendalam, menghasilkan air berketulenan tinggi yang sesuai untuk pembersihan wafer dan proses pembuatan semikonduktor lain.
Peralatan utama termasuk:
- Tangki penyamarataan tahan kakisan dan sistem pelarasan pH
- Reaktor pelepasan fluorida berkesan tinggi dan pemecah koloid
- Sistem pelunak air sepenuhnya automatik
- Sistem penapisan membran anti-pelapisan
- Sistem pengagihan bahan kimia pintar
- Alat pemantauan kualiti air dalam talian berketepatan tinggi
4. Kelebihan Penyelesaian
Penyelesaian ini direkabentuk khusus untuk pembuatan semikonduktor SiC dan GaN generasi ketiga, secara berkesan menangani tiga cabaran industri utama: penyingkiran zarah ultra-halus, kawalan fluorida, dan rintangan kakisan.
Air yang dirawat secara konsisten memenuhi keperluan penggunaan semula dalam pengeluaran serta piawaian pelupusan alam sekitar. Kelengkapan bukan piawai boleh direka bentuk secara tersuai untuk menyesuaikan susun atur loji yang padat dan persekitaran operasi yang sangat kakisan, dengan struktur anti-kakisan diperkukuh, saluran aliran tahan tersumbat, dan reka bentuk modular yang padat yang disesuaikan khusus untuk kemudahan semikonduktor.
Semua sistem kawalan elektrik utama, peralatan mekanikal, dan komponen rawatan air dihasilkan mengikut piawaian antarabangsa yang diiktiraf seperti CE, UL, dan ISO, memastikan keselamatan, kebolehpercayaan, dan pematuhan peraturan yang unggul untuk aplikasi semikonduktor berteknologi tinggi.
Sistem ini menawarkan rintangan yang sangat baik terhadap perubahan kualiti air, secara ketara mengurangkan pendaraban membran, kekerapan penyelenggaraan dan masa henti operasi. Kadar penggunaan semula air boleh melebihi 95%, secara ketara mengurangkan penggunaan air tawar dan kos operasi keseluruhan.
Reka bentuk modularnya yang menjimatkan ruang membolehkan pengembangan kapasiti secara fleksibel, manakala kawalan pintar sepenuhnya automatik memastikan operasi yang stabil untuk pembuatan semikonduktor berterusan dengan ketepatan tinggi.
5. Rujukan Projek & Dokumentasi Sokongan
Kami berjaya menghantar sistem rawatan air sisa untuk kemudahan pembuatan wafer semikonduktor SiC dan GaN, termasuk sebuah loji pengeluaran semikonduktor jalur lebar rujukan dengan kapasiti rawatan sebanyak 900 m³/hari.
Sistem ini telah beroperasi dengan boleh dipercayai, secara berkesan menghilangkan pengumpulan zarah, menstabilkan penyingkiran fluorida, dan secara konsisten menghasilkan air yang dikitar semula yang memenuhi keperluan penggunaan semula air ultra tulen untuk sektor semikonduktor. Projek ini berjaya lulus ujian penerimaan kilang serta pemeriksaan pematuhan alam sekitar.
Dokumentasi sokongan termasuk:
- Paten proses eksklusif
- Sijil CE, UL, dan ISO
- Laporan ujian kualiti air oleh pihak ketiga
- Dokumentasi penerimaan projek
- Projek rujukan daripada pengilang semikonduktor terkemuka
6. Lingkup Perkhidmatan & Proses Kerjasama
Kami menyediakan penyelesaian rawatan air sisa EPC siap guna yang komprehensif untuk pengilang semikonduktor generasi ketiga, merangkumi penyiasatan tapak, analisis kualiti air, kejuruteraan proses tersuai, pembuatan peralatan bukan piawai, pemasangan, penyusunan, perkhidmatan operasi & penyelenggaraan, peningkatan sistem, dan bekalan bahan habis pakai sepanjang hayat.
Proses Kerjasama Piawai
- Kaji tapak dan ambil sampel air sisa dengan analisis kualiti air yang komprehensif
- Reka bentuk proses dan peralatan tersuai berdasarkan keadaan pengeluaran
- Pembuatan peralatan dan pembinaan di tapak mengikut pengesahan kontrak
- Pemasangan, penyusunan, dan operasi percubaan terpadu sehingga pencapaian kestabilan dan pematuhan
- Sokongan penerimaan projek dan latihan operator
- Perkhidmatan penyelenggaraan berjadual jangka panjang, sokongan teknikal, pengoptimuman sistem, dan peningkatan
EN
