1. Mga Pinagmulan ng Tubig na Nagmumula sa Brewery, Karaniwang mga Polutante at Katangian ng Tubig
Ang tubig na nagmumula sa paggawa ng semiconductor na Silicon Carbide (SiC) at Gallium Nitride (GaN) ay pangunahing nagmumula sa mga proseso ng epitaxial growth, etching, ion implantation, thin-film deposition, pagpapaganda at paglilinis ng wafer, at ang paghuhugas ng cleanroom. Kung ihahambing sa tubig na dumi mula sa tradisyonal na silicon semiconductor, ang tubig na dumi mula sa semiconductor ng ikatlong henerasyon ay may mas kumplikadong komposisyon at mas mahirap gamutin.
Kabilang sa karaniwang kontaminante ang fluoride, mataas na konsentrasyon ng mga acid at alkali, ultra-maliit na partikulo ng silicon carbide, mga compound ng gallium, nitride, mga trace na ion ng heavy metal, at maliit na halaga ng organic contaminants tulad ng mga residue ng photoresist at mga kemikal na ginagamit sa stripping, na nagreresulta sa hindi pare-parehong antas ng COD.
Ang tubig na basura ay may katangian ng paulit-ulit na malakas na acidic at alkaline na daloy, mataas na konsentrasyon ng fluoride, ultra-maliit na mga solidong nakasuspensyon, at lubhang korosibong katangian. Ang mga istable na colloidal na partikulo ay mabagal na nalulunod, kaya tumataas ang panganib ng pagkakaroon ng dumi sa pipeline at pag-block ng membrane. Bukod dito, ang produksyon ng semiconductor na may malawak na bandgap ay nangangailangan ng reclaimed water na may ultra-mataas na kalinisan, kung saan ang mga standard sa kalidad ng tubig ay lubhang mas mahigpit kaysa sa karaniwang paggamot sa tubig na basura sa industriya.
2. Karaniwang Hamon ng mga Customer
Ang mga tagagawa ng SiC at GaN na semiconductor ay madalas na humaharap sa ilang hamon sa paggamot ng tubig na basura.
Ang mga ultra-halum na partikulo ng SiC at GaN ay mahirap tanggalin gamit ang karaniwang sedimentation, na nagreresulta sa pag-akumula ng putik, pagkablock ng kagamitan, madalas na pagkakahalo ng membrane, at mahal na paghinto ng produksyon. Ang tubig na may mataas na fluoride na nabubuo sa proseso ng etching ay mahirap linisin nang pare-pareho, kaya mahirap sumunod sa lalong tumitibay na mga pamantayan sa environmental discharge.
Ang proseso ng produksyon ay gumagawa rin ng alternatibong acidic at alkaline na wastewater streams na may mataas na ka-corrosive, kaya kailangan ng espesyal na kagamitan na anti-corrosion imbes na mga karaniwang industrial system. Kasabay nito, hinahanap ng mga semiconductor manufacturer ang napakataas na ultrapure water recovery rates, ngunit ang mga karaniwang teknolohiya sa paglilinis ay madalas na hindi nakakatugon sa kinakailangang kalidad ng tubig, na nagdudulot ng labis na paggamit ng freshwater at mas mataas na operating costs.
Bukod dito, ang mga modernong semiconductor fabrication facility ay karaniwang may limitadong espasyo para sa pag-install at mabilis na umuunlad na mga linya ng produksyon, kaya mahirap palawakin o i-upgrade ang mga tradisyonal na malalaking pasilidad para sa paggamot. Dahil dito, tumataas ang pangangailangan para sa kompakto, modular, at ganap na nakakustomize na mga sistema ng paggamot ng wastewater na idinisenyo partikular para sa mataas na presisyong pagmamanupaktura ng semiconductor.
3. Proseso ng Paglilinis at Konpigurasyon ng Pangunahing Kagamitan
Upang tugunan ang mataas na nilalaman ng fluoride, ultra-maliit na mga partikula, at korosibong katangian ng wastewater mula sa SiC at GaN, ginagamit namin ang isang tiyak na proseso ng paggamot na binubuo ng:
Hiwalay na Koleksyon → Tiyaan na Paghuhulagpos ng pH & Pagkabali ng Colloid → Pagpapakulay at Pag-alis ng Fluoride → Fine Filtration → Advanced Membrane Purification → Muling Paggamit ng Ultrapure Water
Ang mga daloy ng acidic, alkaline, may fluoride, at wastewater mula sa proseso ay kinokolekta at ineequalize nang hiwalay upang bawasan ang mga pagbabago sa hydraulic at kalidad ng tubig.
Ang adsorpsyon ng activated carbon at ang presisyon na pag-filter ay nag-aalis ng mga nakikitang organikong compound at natitirang kontaminante na may metal. Ang pinagdadaanan ng tubig ay pumapasok sa isang Ultrafiltration (UF) system, kasunod nito ay isang anti-fouling Reverse Osmosis (RO) system para sa malalim na desalination, na gumagawa ng mataas na purity na tubig na angkop para sa paglilinis ng wafer at iba pang proseso sa paggawa ng semiconductor.
Kabilang sa pangunahing kagamitan ang:
- Mga corrosion-resistant na equalization tanks at pH adjustment systems
- Mga high-efficiency na fluoride removal at colloid-breaking reactors
- Mga fully automatic na water softening systems
- Mga sistema ng membrane filtration na anti-fouling
- Mga intelligent na sistema para sa dosing ng kemikal
- Mga instrumentong pang-monitoring ng kalidad ng tubig online na may mataas na katiyakan
4. Mga Kawastuhan ng Solusyon
Ang solusyon na ito ay partikular na idinisenyo para sa ikatlong henerasyon ng SiC at GaN semiconductor manufacturing, na epektibong tumutugon sa tatlong mahahalagang hamon sa industriya: ultra-fine particle removal, fluoride control, at corrosion resistance.
Ang pinagdadaanan na tubig ay palaging sumusunod sa parehong mga kinakailangan para sa muling paggamit sa produksyon at sa mga pamantayan para sa paglabas nito sa kapaligiran. Ang mga pasadyang kagamitan na hindi sumusunod sa karaniwan ay maaaring idisenyo upang angkop sa compact na layout ng planta at sa mga labis na korosibong kapaligiran ng operasyon, na may mga pinalakas na istrukturang anti-korosyon, mga daloy na anti-clog, at modular na compact na disenyo na nakatuon sa mga pasilidad ng semiconductor.
Ang lahat ng pangunahing electrical control systems, mechanical equipment, at mga komponente ng water treatment ay ginawa ayon sa internasyonal na kinikilalang CE, UL, at ISO standards, na nagpapagarantiya ng mataas na antas ng kaligtasan, katiyakan, at pagsunod sa regulasyon para sa high-end na semiconductor applications.
Ang sistema ay nag-aalok ng mahusay na paglaban sa mga pagbabago sa kalidad ng tubig, na kung saan ay malaki ang binabawasan ang pagkakaroon ng dumi sa membrane, ang kadalasang pangangailangan ng pagpapanatili, at ang panahon ng paghinto sa operasyon. Ang porsyento ng muling paggamit ng tubig ay maaaring lumampas sa 95%, na malaki ang binabawasan ang konsumo ng tubig na sariwa at ang kabuuang gastos sa operasyon.
Ang modular at nakaeconomize sa espasyo nitong disenyo ay nagbibigay-daan sa flexible na pagpapalawak ng kapasidad, habang ang ganap na awtomatikong intelligent na kontrol ay nagsisiguro ng matatag na operasyon para sa tuloy-tuloy at mataas na presisyong produksyon ng semiconductor.
5. Mga Sanggunian sa Proyekto at Suportadong Dokumentasyon
Matagumpay naming inilipat ang mga sistemang panglinis ng tubig na ginagamit sa paggawa ng SiC at GaN semiconductor wafer, kabilang ang isang benchmark na halimbawa ng planta ng produksyon ng wide-bandgap semiconductor na may kakayahang linisin ang 900 m³/araw.
Ang sistema ay gumana nang maaasahan, na epektibong pinatitigas ang pag-akumula ng mga partikulo, pinapabilis ang pag-alis ng fluoride, at patuloy na nagpaprodukto ng recycled na tubig na sumusunod sa mga kinakailangan para sa muling paggamit ng ultrapure na tubig sa semiconductor. Matagumpay na napasa ng proyekto ang parehong pagsusuri sa pabrika at inspeksyon para sa pagsunod sa mga regulasyon pangkapaligiran.
Kasama sa suportadong dokumentasyon:
- Mga patent na may eksklusibong proseso
- Mga sertipikasyon mula sa CE, UL, at ISO
- Mga ulat sa pagsusuri ng kalidad ng tubig mula sa ikatlong partido
- Dokumentasyon para sa pagtanggap ng proyekto
- Mga sangguniang proyekto mula sa mga nangungunang tagagawa ng semiconductor
6. Saklaw ng Serbisyo at Proseso ng Pakikipagtulungan
Nagbibigay kami ng komprehensibong EPC turnkey na solusyon para sa paglilinis ng tubig na ginagamit sa paggawa ng semiconductor ng ika-3 henerasyon, na sumasaklaw sa pagsusuri sa lokasyon, pagsusuri sa kalidad ng tubig, pagdidisenyo ng proseso batay sa pangangailangan, paggawa ng hindi karaniwang kagamitan, pag-install, pagsisimula ng operasyon, serbisyo sa operasyon at pagpapanatili, upgrade ng sistema, at suplay ng mga consumables sa buong buhay ng sistema.
Pamantayan na Proseso ng Pakikipagtulungan
- Pagsusuri sa lugar at pagkuha ng sample ng wastewater kasama ang komprehensibong pagsusuri sa kalidad ng tubig
- Pasadyang disenyo ng proseso at kagamitan batay sa mga kondisyon sa produksyon
- Paggawa ng kagamitan at konstruksyon sa lugar ayon sa kumpirmasyon ng kontrata
- Instalasyon, pagsisimula, at buong pagsusubok ng operasyon hanggang sa matatag na pagkakasunod sa mga kinakailangan
- Suporta sa pag-apruba ng proyekto at pagsasanay sa mga operator
- Matagalang pangunahing pagpapanatili, teknikal na suporta, optimisasyon ng sistema, at serbisyo para sa upgrade
EN
