semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, /solutions
EN
Суровата вода за ултрапреми системи за ултрапрема вода (UPW) обикновено се добива от градски водоснабдителни системи или от подземни води на мястото. Получената ултрапрема вода се използва в критични процеси за производство на полупроводникови устройства, включително етчинг на пластини, нанасяне на тънки филми, химично-механично полирване (CMP), почистване на пластини, фотолитография и други напреднали процеси за производство, при които качеството на водата директно влияе върху добивността на устройствата и надеждността на продуктите.
Типичните замърсители в суровата вода включват йони на калций и магнезий (твърдост), увиснали твърди частици, колоидни частици, остатъчен хлор, сулфати, силикати и следови количества тежки метали. В зависимост от източника на водата, може да присъстват и следови микроорганизми и общ органичен въглерод (TOC).
Системите за ултрапреми вода (UPW) за полупроводниковата промишленост изискват едни от най-високите стандарти за качество на водата в съвременното производство. Практически всички разтворени йони, суспендирани частици, микроорганизми и органични замърсители трябва да бъдат премахнати. Продуктовата вода трябва да постига електрическо съпротивление от 18,25 MΩ·cm, докато замърсяването с частици, общото органично съдържание (TOC), кремний и следови метални йони трябва да се контролира на изключително ниски нива.
В сравнение с системите за ултрапреми вода (UPW), използвани във фотогалваничната, литиево-батерийната или други индустриални приложения, полупроводниковите UPW системи изискват значително по-високо качество на водата, изключителна експлоатационна стабилност и непрекъсната безотказна работа.
Основният предизвикателство при производството на ултрапреми вода за полупроводниковата промишленост е поддържането на постоянно стабилно качество на водата на изключително високо ниво на чистота.
Колебанията в качеството на изходната вода могат директно да повлияят върху електрическото съпротивление, концентрацията на кремний и нивата на следови йони, което потенциално може да намали добива от пластини и да увеличи производствените дефекти.
Конвенционалните индустриални системи за производство на чиста вода обикновено нямат достатъчна способност за пречистване, за да отстранят напълно следовите йони, разтворените органични съединения (TOC) и ултрафините частици, което ги прави неподходящи за напредналите процеси на производство на полупроводникови устройства.
Освен това филтърните патрони, йонообменните смоли и мембранните елементи са подложни на замърсяване и намаляване на ефективността, което води до чести спирания за поддръжка и прекъсва непрекъснатото производство.
Стандартното оборудване често използва тръбопроводни системи и резервоари с недостатъчна корозионна устойчивост или чистота, което увеличава риска от вторично замърсяване поради измиване на материали.
Докато производствените мощности за полупроводници продължават да се разширяват и технологиите за обработка бързо се развиват, традиционните системи за третиране на вода с фиксиран дизайн предлагат ограничена гъвкавост за модернизация на инсталациите и разширение на капацитета. Производителите все повече изискват високо персонализирани, мащабируеми и съответстващи на международните стандарти системи за ултрапреминаваща вода (UPW), специално проектирани за напреднали производствени процеси на полупроводници.
За да отговаряме на строгите изисквания към качеството на водата в производството на полупроводници, използваме проверен многостепенен процес за производство на UPW, който включва:
Предварителна обработка → Двойно преминаване чрез обратен осмоз (RO) → Електродеионизация (EDI) → Полираща смесена колона → Финална прецизна филтрация
Суровата вода първо минава през предварителна обработка чрез филтрация с многокомпонентен филтър, филтрация с активен въглен и прецизна картучна филтрация, за да се премахнат втвърдени частици, остатъчен хлор, колоидни замърсители и големи органични молекули.
Предварително обработената вода след това преминава през система за обратно осмозно филтриране с двойно преминаване (RO), за да се отстрани голямата част от разтворените соли, кремнезем и йони на метали.
Напреднала система за електродеионизация (EDI) непрекъснато отстранява останалите йонни замърсявания без химическа регенерация, като по този начин се елиминира риска от вторично замърсяване, свързан с регенерацията на конвенционалните йонни разменници.
Накрая полироща смесена йонна разменна система заедно с крайна ултрафилтрация произвежда ултраприста вода с постоянна специфична електрическа съпротива от 18,25 MΩ·cm, напълно отговаряща на изискванията на напредналите процеси за производство на полупроводникови устройства.
Основното оборудване включва:
Това решение е специално проектирано за напреднали процеси на производство на полупроводници и постоянно произвежда ултраприста вода, съответстваща на най-високите индустриални стандарти.
Критичните параметри на качеството на водата – включително общото органично съдържание (TOC), замърсяване с частици, кремний и следови йони на метали – се контролират с висока точност, за да се максимизира добивът на пластини и надеждността на производствения процес.
Предлагаме напълно персонализирани инженерни решения, базирани на планирането на чистата стая, технологичния възел на процеса, производствената мощност и характеристиките на суровата вода. Тръбопроводите от високочисти корозионноустойчиви материали, компактното оборудване на подвижни рамки (skid-mounted) и модулните проекти за разширение ефективно предотвратяват вторично замърсяване и осигуряват възможност за бъдещи увеличения на мощността.
Цялото основно оборудване, електрическите системи за управление и компонентите за пречистване на водата са сертифицирани според изискванията на CE, UL и ISO, което гарантира съответствие с международните стандарти за безопасност и изискванията за производство на полупроводници по целия свят.
Многостепенният процес на пречистване включва интелигентен мониторинг на качеството на водата и автоматичен контрол на процеса, осигурявайки отлична устойчивост към колебанията в качеството на суровата вода, както и удължавайки експлоатационния живот на мембраните, йонообменните смоли и филтриращите компоненти.
Модуларният интегриран дизайн минимизира изискванията към инсталационното пространство, позволява бързо разгъване и осигурява изключителна гъвкавост за разширение на производствените мощности на полупроводниковите фабрики и модернизация на технологичните процеси.
Успешно сме доставили системи за ултрапреминаваща вода (UPW) за множество фабрики за производство на полупроводникови пластина и предприятия за сглобяване и тестване на полупроводникови устройства.
Примерен проект е системата за ултрапреминаваща вода (UPW) за напреднала 12-инчова полупроводникова фабрика, при която качеството на продукционната вода постоянно поддържа електрическо съпротивление от 18,25 MΩ·cm, напълно съответстващо на най-високите спецификации за ултрапреминаваща вода в полупроводниковата индустрия.
Системата е демонстрирала надеждна непрекъсната работа през цялата година, поддържайки стабилно производство на полупроводници в големи обеми и успешно изпълнявайки както фабричните приемни изпитания (FAT), така и индустриалните проверки за съответствие.
Поддържащата документация включва:
Предлагаме комплексни EPC ключово-решение за системи за ултрапреми вода за полупроводници, включващи проучване на площадката, анализ на качеството на суровата вода, персонализирано процесно инженерство, проектиране и производство на нестандартно оборудване, монтаж, пускане в експлоатация, валидиране на системата, услуги по експлоатация и поддръжка, модернизации на системата и доставка на консумативи през целия ѝ експлоатационен живот.