semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, /solutions
EN
Råvatten för halvledarultraren vatten (UPW)-system hämtas vanligtvis från kommunala vattenförsörjningar eller lokalt grundvatten. Det producerade ultrarena vattnet används i kritiska halvledartillverkningsprocesser, inklusive skivaätning, tunnfilmsdeponering, kemisk-mekanisk planering (CMP), skivrenovering, fotolitografi och andra avancerade tillverkningsprocesser, där vattenkvaliteten direkt påverkar utbytet av komponenter och produkternas tillförlitlighet.
Typiska föroreningar i råvatten inkluderar kalcium- och magnesiumhårdhetsjoner, suspenderade fasta partiklar, kolloidala partiklar, resterande klor, sulfater, silikater och spårmetaller. Beroende på vattenkällan kan även spårmikroorganismer och totalt organiskt kol (TOC) förekomma.
Halvledar-UPW-system kräver en av de högsta vattenkvalitetsstandarderna inom modern tillverkning. Nästan alla upplösta joner, suspenderade partiklar, mikroorganismer och organiska föroreningar måste avlägsnas. Produktvattnet måste uppnå en elektrisk resistivitet på 18,25 MΩ·cm, medan partikelföroreningar, TOC, kiseldioxid och spårjoner måste kontrolleras på extremt låga nivåer.
Jämfört med ultrarenat vatten (UPW) för fotovoltaik, litiumbatterier eller andra industriella tillämpningar kräver halvledar-UPW-system betydligt högre vattenrenhet, exceptionell driftstabilitet och obegränsad kontinuerlig prestanda.
Den främsta utmaningen vid produktion av ultrarenat vatten för halvledarindustrin är att bibehålla konsekvent stabil vattenkvalitet på extremt höga renhetsnivåer.
Fluktuationer i råvattenskvaliteten kan direkt påverka resistiviteten, kiseldioxidkoncentrationen och spårjonhalterna, vilket potentiellt minskar waferytningen och ökar antalet produktionsfel.
Konventionella industriella system för ren vattenproduktion saknar oftast tillräcklig reningseffektivitet för att helt avlägsna spårjoner, lösta organiska ämnen (TOC) och ultrafina partiklar, vilket gör dem olämpliga för avancerade halvledartillverkningsprocesser.
Dessutom är filterpatroner, jonutbytesharts och membranelement benägna att förorenas och förlora prestanda, vilket leder till frekventa underhållsstopp som avbryter kontinuerlig produktion.
Standardutrustning använder ofta rörsystem och lagringsbehållare med otillräcklig korrosionsbeständighet eller renlighet, vilket ökar risken för sekundärkontaminering orsakad av utlakning av material.
Eftersom halvledarfabriker fortsätter att expandera och process-teknikerna utvecklas snabbt erbjuder konventionella vattenreningssystem med fast design begränsad flexibilitet för anläggningsuppgraderingar och kapacitetsökningar. Tillverkare kräver allt mer högt anpassade, skalbara och internationellt efterlevande UPW-system som specifikt är utformade för avancerad halvledartillverkning.
För att uppfylla de strikta kraven på vattenkvalitet inom halvledartillverkning använder vi en beprövad flerstegs-UPW-produktionsprocess som består av:
Förbehandling → Dubbelgenomgång av omvänd osmos (RO) → Elektrodejonisering (EDI) → Polering i blandat bäddfilter → Slutlig precisionsfiltrering
Råvatten genomgår först förbehandling via flermediefiltrering, aktiveradkolfiltrering och precisionsskivfiltrering för att avlägsna suspenderade fasta partiklar, resterande klor, kolloidala föroreningar och stora organiska molekyler.
Den förbehandlade vattnet passerar sedan genom ett tvåstegs omvänd osmos-system (RO) för att avlägsna största delen av lösta salter, kiseldioxid och metalljoner.
Ett avancerat elektrodeioniseringsystem (EDI) avlägsnar kontinuerligt återstående joniska föroreningar utan kemisk regenerering, vilket eliminerar risken för sekundär förorening som är förknippad med konventionell jonutbytesregenerering.
Slutligen producerar ett polerande blandat bädd-jonutbytesystem tillsammans med terminal ultrafiltrering ultrarenat vatten med en stabil resistivitet på 18,25 MΩ·cm, vilket fullt ut uppfyller kraven för avancerade halvledartillverkningsprocesser.
Kärnutrustning inkluderar:
Denna lösning är särskilt utformad för avancerade halvledartillverkningsprocesser och ger konsekvent ultraren vatten som uppfyller de högsta branschstandarderna.
Kritiska vattenkvalitetsparametrar – inklusive TOC, partikelföroreningar, kiseldioxid och spårmetaljjoners koncentration – kontrolleras exakt för att maximera kretskortsutbytet och tillverkningens pålitlighet.
Vi erbjuder fullständigt anpassade ingenjörslösningar baserade på renrummets layout, processens teknologinod, produktionskapacitet och råvattens egenskaper. Rör av högpuret korrosionsbeständigt material, kompakta skidmonterade apparater samt modulära expansionsdesigner eliminierar effektivt sekundär förorening samtidigt som de möjliggör framtida kapacitetsuppgraderingar.
Alla kärnkomponenter, elektriska styrsystem och vattenbehandlingsdelar är certifierade enligt CE-, UL- och ISO-standarder, vilket säkerställer efterlevnad av internationella säkerhetsregler och krav för halvledartillverkning över hela världen.
Den flerstegsreningprocessen inkluderar intelligent övervakning av vattenkvaliteten och automatisk processkontroll, vilket ger utmärkt motstånd mot variationer i råvatten samtidigt som membranens, jonutbytarnas och filtreringskomponenternas livslängd förlängs.
Den modulära integrerade designen minimerar kraven på installationsyta, möjliggör snabb driftsättning och ger enastående flexibilitet för utbyggnad av halvledarfabriker och processuppgraderingar.
Vi har framgångsrikt levererat ultrareningsvattensystem för halvledare till flera vårfabriker samt halvledarmontage- och testanläggningar.
Ett representativt projekt är ett ultrareningsvattensystem (UPW) för en avancerad 12-tums halvledarfabrik, där produktvattnet konsekvent upprätthåller en elektrisk resistivitet på 18,25 MΩ·cm, i full överensstämmelse med de högsta specifikationerna för ultrareningsvatten för halvledare.
Systemet har visat på tillförlitlig kontinuerlig verksamhet året runt, vilket stödjer stabil högvolymsproduktion av halvledare samtidigt som det framgående genomförde både fabriksgodkännandeprövning (FAT) och branschmässiga efterlevnadsinspektioner.
Stöddokumentation inkluderar:
Vi erbjuder omfattande EPC-lösningar på nyckelfärdigt basis för system för ultraren vatten (UPW) inom halvledarindustrin, inklusive platsundersökning, analys av råvattenkvalitet, anpassad processteknik, konstruktion och tillverkning av icke-standardutrustning, installation, idrifttagning, systemvalidering, drift- och underhållstjänster, systemuppgraderingar samt leverans av förbrukningsartiklar under hela systemets livstid.