semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, /solutions
EN
Air baku untuk sistem Air Ultramurni (UPW) Semikonduktor biasanya bersumber dari pasokan air kota atau air tanah di lokasi. Air ultramurni yang dihasilkan digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor kritis, termasuk etsa wafer, deposisi lapisan tipis, perataan mekanis-kimia (CMP), pembersihan wafer, fotolitografi, serta proses fabrikasi canggih lainnya, di mana kualitas air secara langsung memengaruhi hasil produksi (yield) perangkat dan keandalan produk.
Kontaminan umum dalam air baku meliputi ion pengeras (kalsium dan magnesium), padatan tersuspensi, partikel koloid, klorin sisa, sulfat, silikat, serta logam berat dalam jejak. Bergantung pada sumber airnya, mikroorganisme dalam jejak dan Karbon Organik Total (TOC) juga dapat hadir.
Sistem UPW semikonduktor memerlukan salah satu standar kualitas air tertinggi dalam manufaktur modern. Hampir semua ion terlarut, partikel tersuspensi, mikroorganisme, dan kontaminan organik harus dihilangkan. Air produk harus mencapai resistivitas listrik sebesar 18,25 MΩ·cm, sedangkan kontaminasi partikulat, TOC, silika, dan ion logam jejak harus dikendalikan hingga tingkat yang sangat rendah.
Dibandingkan sistem air ultramurni yang digunakan dalam fotovoltaik, baterai litium, atau aplikasi industri lainnya, sistem UPW semikonduktor menuntut tingkat kemurnian air yang jauh lebih tinggi, stabilitas operasional yang luar biasa, serta kinerja kontinu tanpa gangguan.
Tantangan utama dalam produksi air ultramurni semikonduktor adalah mempertahankan kualitas air yang stabil secara konsisten pada tingkat kemurnian yang sangat tinggi.
Fluktuasi kualitas air baku dapat secara langsung memengaruhi resistivitas, konsentrasi silika, dan kadar ion jejak, yang berpotensi menurunkan hasil wafer serta meningkatkan cacat produksi.
Sistem air murni industri konvensional umumnya tidak memiliki kemampuan pemurnian yang cukup untuk menghilangkan sepenuhnya ion jejak, organik terlarut (TOC), dan partikel ultra-halus, sehingga tidak cocok untuk proses manufaktur semikonduktor tingkat lanjut.
Selain itu, kartrid filter, resin pertukaran ion, dan elemen membran rentan terhadap pengotoran serta penurunan kinerja, yang mengakibatkan pemadaman perawatan berkala yang mengganggu produksi berkelanjutan.
Peralatan standar sering menggunakan sistem perpipaan dan tangki penyimpanan dengan ketahanan korosi atau kebersihan yang tidak memadai, sehingga meningkatkan risiko kontaminasi sekunder akibat pelarutan bahan.
Seiring dengan terus berkembangnya pabrik semikonduktor dan pesatnya evolusi teknologi proses, sistem pengolahan air berdesain tetap konvensional menawarkan fleksibilitas terbatas untuk peningkatan pabrik dan ekspansi kapasitas. Produsen kini semakin membutuhkan sistem UPW yang sangat disesuaikan, dapat diskalakan, serta memenuhi standar internasional—dirancang khusus untuk fabrikasi semikonduktor mutakhir.
Untuk memenuhi persyaratan kualitas air yang ketat dalam manufaktur semikonduktor, kami menerapkan proses produksi UPW berbasis multi-tahap yang telah teruji, terdiri atas:
Pra-perlakuan → Reverse Osmosis (RO) Dua-Tahap → Electrodeionization (EDI) → Pemolesan Mixed-Bed → Filtrasi Presisi Akhir
Air baku pertama-tama menjalani pra-perlakuan melalui filtrasi multimedia, filtrasi karbon aktif, dan filtrasi kartrid presisi guna menghilangkan padatan tersuspensi, klorin sisa, kontaminan koloid, serta molekul organik berukuran besar.
Air yang telah dipretreatment kemudian melewati sistem osmosis balik (RO) dua tahap untuk menghilangkan sebagian besar garam terlarut, silika, dan ion logam.
Sistem Electrodeionization (EDI) canggih secara terus-menerus menghilangkan kontaminan ionik tersisa tanpa regenerasi bahan kimia, sehingga menghilangkan risiko kontaminasi sekunder yang terkait dengan regenerasi pertukaran ion konvensional.
Akhirnya, sistem pertukaran ion campuran (mixed-bed) pemoles bersama dengan ultrafiltrasi terminal menghasilkan air ultramurni dengan resistivitas stabil sebesar 18,25 MΩ·cm, sepenuhnya memenuhi persyaratan proses manufaktur semikonduktor tingkat lanjut.
Peralatan inti meliputi:
Solusi ini dirancang khusus untuk proses manufaktur semikonduktor tingkat lanjut dan secara konsisten menghasilkan air ultramurni yang memenuhi standar industri tertinggi.
Parameter kritis kualitas air—termasuk TOC, kontaminasi partikulat, silika, dan ion logam jejak—dikendalikan secara presisi guna memaksimalkan hasil wafer dan keandalan manufaktur.
Kami menyediakan solusi rekayasa sepenuhnya disesuaikan berdasarkan tata letak ruang bersih (cleanroom), node teknologi proses, kapasitas produksi, serta karakteristik air baku. Piping tahan korosi berketelitian tinggi, peralatan kompak berbasis skid, dan desain ekspansi modular secara efektif menghilangkan kontaminasi sekunder sekaligus mendukung peningkatan kapasitas di masa depan.
Seluruh peralatan inti, sistem kendali listrik, serta komponen pengolahan air telah tersertifikasi sesuai standar CE, UL, dan ISO, sehingga menjamin kepatuhan terhadap peraturan keselamatan internasional dan persyaratan manufaktur semikonduktor di seluruh dunia.
Proses pemurnian bertahap menggabungkan pemantauan kualitas air cerdas dan pengendalian proses otomatis, memberikan ketahanan luar biasa terhadap fluktuasi air baku sekaligus memperpanjang masa pakai membran, resin, dan komponen penyaringan.
Desain terintegrasi modular meminimalkan kebutuhan ruang pemasangan, memungkinkan penyebaran cepat, serta memberikan fleksibilitas luar biasa untuk ekspansi fabrikasi semikonduktor dan peningkatan proses.
Kami telah berhasil mengirimkan sistem air ultramurni semikonduktor ke berbagai fasilitas fabrikasi wafer dan pabrik perakitan serta pengujian semikonduktor.
Sebuah proyek representatif adalah Sistem Air Ultrapure (UPW) untuk Fabrikasi Semikonduktor Lanjutan 12 inci, di mana air produk secara konsisten mempertahankan resistivitas listrik sebesar 18,25 MΩ·cm, sepenuhnya mematuhi spesifikasi tertinggi untuk air ultramurni semikonduktor.
Sistem ini telah menunjukkan operasi berkelanjutan sepanjang tahun yang andal, mendukung produksi semikonduktor bervolume tinggi secara stabil sekaligus berhasil lulus uji penerimaan pabrik (FAT) dan inspeksi kepatuhan industri.
Dokumentasi pendukung meliputi:
Kami menyediakan solusi EPC turnkey komprehensif untuk sistem air ultramurni semikonduktor, mencakup survei lokasi, analisis kualitas air baku, rekayasa proses khusus, desain dan pembuatan peralatan non-standar, instalasi, commissioning, validasi sistem, layanan operasi dan pemeliharaan, peningkatan sistem, serta pasokan bahan habis pakai seumur hidup.