semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, semiconductor-ultrapure-water-upw-system-solution, /solutions
EN
Air mentah untuk sistem Air Ultrapure (UPW) Semikonduktor biasanya diperoleh daripada bekalan air bandar atau air bawah tanah di tapak. Air ultrapure yang dihasilkan digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor yang kritikal, termasuk pengetchan wafer, pemendapan lapisan nipis, pengplanaran mekanikal kimia (CMP), pembersihan wafer, fotolitografi, dan proses fabrikasi lanjutan lain, di mana kualiti air secara langsung mempengaruhi hasil peranti dan kebolehpercayaan produk.
Kontaminan lazim dalam air mentah termasuk ion keras kalsium dan magnesium, pepejal terampai, zarah koloid, klorin baki, sulfat, silikat, dan logam berat dalam jumlah surih. Bergantung kepada sumber air, mikroorganisma dalam jumlah surih dan Karbon Organik Jumlah (TOC) juga mungkin hadir.
Sistem air ultramurni (UPW) untuk semikonduktor memerlukan salah satu piawaian kualiti air tertinggi dalam pembuatan moden. Hampir semua ion terlarut, zarah tersuspensi, mikroorganisma, dan kontaminan organik mesti dialihkan. Air hasil mesti mencapai rintangan elektrik sebanyak 18.25 MΩ·cm, manakala pencemaran zarah, TOC, silika, dan ion logam surih mesti dikawal pada tahap yang sangat rendah.
Berbanding sistem air ultramurni (UPW) yang digunakan dalam fotovoltaik, bateri litium, atau aplikasi industri lain, sistem UPW untuk semikonduktor menuntut ketulenan air yang jauh lebih tinggi, kestabilan operasi yang luar biasa, dan prestasi berterusan tanpa gangguan.
Cabaran utama dalam penghasilan air ultramurni (UPW) untuk semikonduktor ialah mengekalkan kualiti air yang stabil secara konsisten pada tahap ketulenan yang sangat tinggi.
Ketidakstabilan dalam kualiti air mentah boleh secara langsung memberi kesan kepada rintangan elektrik, kepekatan silika, dan tahap ion surih, yang berpotensi mengurangkan hasil wafer dan meningkatkan cacat pengeluaran.
Sistem air tulen industri konvensional biasanya tidak mempunyai keupayaan penulen yang mencukupi untuk menghilangkan sepenuhnya ion jejak, organik terlarut (TOC), dan zarah ultrahalus, menjadikannya tidak sesuai untuk proses pembuatan semikonduktor lanjutan.
Selain itu, kartrij penapis, resin penukaran ion, dan unsur membran mudah tercemar serta mengalami penurunan prestasi, menyebabkan pemadaman penyelenggaraan kerap yang mengganggu pengeluaran berterusan.
Peralatan piawai sering menggunakan sistem paip dan tangki simpanan dengan rintangan kakisan atau kebersihan yang tidak mencukupi, meningkatkan risiko pencemaran sekunder akibat pelunturan bahan.
Apabila kilang semikonduktor terus berkembang dan teknologi prosesnya berkembang dengan pesat, sistem rawatan air berreka bentuk tetap konvensional menawarkan kelenturan yang terhadar untuk peningkatan kilang dan perluasan kapasiti. Pengilang kini semakin memerlukan sistem air ultra-bersih (UPW) yang sangat tersuai, boleh diskalakan, dan mematuhi piawaian antarabangsa secara khusus bagi fabrikasi semikonduktor canggih.
Untuk memenuhi keperluan kualiti air yang ketat dalam pembuatan semikonduktor, kami menggunakan proses penghasilan air ultra-bersih (UPW) berperingkat banyak yang telah terbukti, iaitu:
Pemprosesan awal → Osmosis songsang dua-laluan (RO) → Elektrodeionisasi (EDI) → Pemolesan katil bercampur → Penapisan tepat akhir
Air mentah pertama-tama menjalani pemprosesan awal melalui penapisan pelbagai-media, penapisan arang aktif, dan penapisan kartrij tepat untuk mengeluarkan pepejal terampai, klorin baki, kontaminan koloid, dan molekul organik bersaiz besar.
Air yang telah diproses awal kemudian melalui sistem osmosis songsang (RO) dua-laluan untuk menghilangkan kebanyakan besar garam terlarut, silika, dan ion logam.
Sistem Elektrodeionisasi (EDI) lanjutan secara berterusan menghilangkan kontaminan ion yang masih tinggal tanpa regenerasi bahan kimia, seterusnya mengelakkan risiko pencemaran sekunder yang berkaitan dengan regenerasi penukar ion konvensional.
Akhirnya, sistem penukaran ion bercampur berjenis polishing bersama penapisan ultra akhir menghasilkan air ultramurni dengan ketahanan elektrik stabil sebanyak 18.25 MΩ·cm, sepenuhnya memenuhi keperluan proses pembuatan semikonduktor canggih.
Peralatan utama termasuk:
Penyelesaian ini direka khas untuk proses pembuatan semikonduktor lanjutan dan secara konsisten menghasilkan air ultra-tulen yang mematuhi piawaian industri tertinggi.
Parameter kualiti air kritikal—termasuk TOC, kontaminasi zarah, silika, dan ion logam jejak—dikawal secara tepat untuk memaksimumkan hasil wafer dan kebolehpercayaan pembuatan.
Kami menyediakan penyelesaian kejuruteraan sepenuhnya tersuai berdasarkan susun atur bilik bersih, nod teknologi proses, kapasiti pengeluaran, dan ciri-ciri air mentah. Paip tahan kakisan berketulenan tinggi, peralatan padat berjenis skid, dan reka bentuk penerokaan modular secara berkesan menghapuskan kontaminasi sekunder sambil menampung peningkatan kapasiti pada masa hadapan.
Semua peralatan utama, sistem kawalan elektrik, dan komponen rawatan air disahkan mengikut piawaian CE, UL, dan ISO, memastikan pematuhan terhadap peraturan keselamatan antarabangsa dan keperluan pembuatan semikonduktor di seluruh dunia.
Proses pembersihan berperingkat banyak menggabungkan pemantauan kualiti air yang pintar dan kawalan proses automatik, memberikan rintangan cemerlang terhadap perubahan kualiti air mentah sambil memperpanjang jangka hayat membran, resin, dan komponen penapisan.
Reka bentuk bermodul terpadu meminimumkan keperluan ruang pemasangan, membolehkan pelaksanaan pantas, dan memberikan kelenturan luar biasa untuk pengembangan fab semikonduktor dan peningkatan proses.
Kami telah berjaya menyerahkan sistem air ultra tulen semikonduktor untuk beberapa kemudahan pembuatan wafer dan kilang pemasangan serta ujian semikonduktor.
Satu projek wakil ialah Sistem Air Ultra Tulin (UPW) Fab Semikonduktor Lanjutan 12 inci, di mana air produk secara konsisten mengekalkan rintangan elektrik sebanyak 18.25 MΩ·cm, sepenuhnya mematuhi spesifikasi tertinggi bagi air ultra tulen semikonduktor.
Sistem ini telah menunjukkan operasi berterusan yang boleh dipercayai sepanjang tahun, menyokong pengeluaran semikonduktor berisipadu tinggi secara stabil sambil berjaya lulus ujian penerimaan kilang (FAT) dan pemeriksaan pematuhan industri.
Dokumentasi sokongan termasuk:
Kami menyediakan penyelesaian EPC siap guna yang komprehensif untuk sistem air ultra tulen (UPW) semikonduktor, merangkumi penyiasatan tapak, analisis kualiti air mentah, kejuruteraan proses tersuai, rekabentuk dan pembuatan peralatan bukan piawai, pemasangan, penyusunan, pengesahan sistem, perkhidmatan pengendalian dan penyelenggaraan, peningkatan sistem, serta bekalan bahan habis pakai seumur hidup.