Solusyon para sa Sistema ng Ultrapure Water (UPW) para sa Semiconductor

1. Mga Pinagkukunan ng Tubig na Hilaw, Karaniwang Kontaminante, at mga Katangian ng Kalidad ng Tubig

Ang hilaw na tubig para sa mga sistemang Ultrapure Water (UPW) para sa semiconductor ay karaniwang kinukuha mula sa mga pampublikong suplay ng tubig o sa groundwater sa loob ng pasilidad. Ang nabuong ultrapure water ay ginagamit sa mga mahahalagang proseso ng paggawa ng semiconductor, kabilang ang pag-etch ng wafer, pag-deposito ng manipis na pelikula, chemical mechanical planarization (CMP), paglilinis ng wafer, photolithography, at iba pang advanced na proseso ng pagmamanupaktura, kung saan ang kalidad ng tubig ay direktang nakaaapekto sa yield ng device at sa katiyakan ng produkto.

Kasama sa karaniwang mga kontaminante sa hilaw na tubig ang calcium at magnesium na mga ion na nagdudulot ng kahirapan, mga solidong nakasuspends, colloidal na partikulo, residual na chlorine, sulfates, silicates, at bakas ng heavy metals. Depende sa pinagkukunan ng tubig, maaaring umiiral din ang bakas ng mikroorganismo at Total Organic Carbon (TOC).

Ang mga sistemang semiconductor UPW ay nangangailangan ng isa sa pinakamataas na pamantayan sa kalidad ng tubig sa modernong pagmamanupaktura. Halos lahat ng natutunaw na mga ion, mga nakasuspensong partikulo, mikroorganismo, at organikong kontaminante ay kailangang tanggalin. Ang produkto ng tubig ay kinakailangang makamit ang electrical resistivity na 18.25 MΩ·cm, samantalang ang kontaminasyon ng partikulo, TOC, silica, at mga trace metal ion ay kailangang kontrolin sa napakababang antas.

Kumpara sa mga sistemang ultrapure water na ginagamit sa photovoltaic, lithium battery, o iba pang industriyal na aplikasyon, ang mga sistemang semiconductor UPW ay nangangailangan ng mas mataas na kalinisan ng tubig, napakadaling katatagan sa operasyon, at walang kapaguran na tuloy-tuloy na pagganap.

2. Karaniwang Hamon ng mga Customer

Ang pangunahing hamon sa produksyon ng ultrapure water para sa semiconductor ay ang pagpapanatili ng pare-parehong matatag na kalidad ng tubig sa napakataas na antas ng kalinisan.

Ang mga pagbabago sa kalidad ng hilaw na tubig ay maaaring direktang makaapekto sa resistivity, konsentrasyon ng silica, at antas ng mga trace ion, na posibleng bawasan ang yield ng wafer at dagdagan ang mga depekto sa produksyon.

Ang karaniwang mga sistema ng industriyal na purong tubig ay kadalasang kulang sa kakayahan sa pagpapalinis upang ganap na alisin ang mga bakas na ions, nabubulok na organiko (TOC), at ultra-maliit na partikulo, kaya hindi ito angkop para sa mga advanced na proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor.

Bukod dito, ang mga filter cartridge, ion exchange resins, at membrane elements ay madaling madumihan at mabawasan ang kanilang pagganap, na nagreresulta sa madalas na pagpapahinga para sa pagpapanatili na nakakagambala sa tuloy-tuloy na produksyon.

Ang karaniwang kagamitan ay kadalasang gumagamit ng mga sistemang tubo at imbakan na may kakaunting resistance sa corrosion o kalinisan, na tumataas sa panganib ng sekondaryang kontaminasyon dahil sa pag-leach ng materyales.

Dahil patuloy na lumalawak ang mga semiconductor fab at mabilis na umuunlad ang mga proseso ng teknolohiya, ang mga tradisyonal na sistema ng paggamot ng tubig na may nakatakda nang disenyo ay nagbibigay lamang ng limitadong kakayahang umangkop sa mga upgrade ng planta at pagpapalawak ng kapasidad. Ang mga tagagawa ay kailangang magkaroon ng mga highly customized, scalable, at internationally compliant na UPW system na partikular na idinisenyo para sa advanced semiconductor fabrication.

3. Proseso ng Paglilinis at Konpigurasyon ng Pangunahing Kagamitan

Upang tupdin ang mahigpit na mga kinakailangan sa kalidad ng tubig sa semiconductor manufacturing, ginagamit namin ang isang na-prove na multi-stage na UPW production process na binubuo ng:

Pretreatment → Double-Pass Reverse Osmosis (RO) → Electrodeionization (EDI) → Mixed-Bed Polishing → Final Precision Filtration

Ang raw water ay una pang dumaan sa pretreatment gamit ang multimedia filtration, activated carbon filtration, at precision cartridge filtration upang alisin ang mga suspended solids, residual chlorine, colloidal contaminants, at malalaking organic molecules.

Ang pre-treated na tubig ay dumaan sa isang double-pass reverse osmosis (RO) system upang alisin ang karamihan ng dissolved salts, silica, at metal ions.

Ang advanced na Electrodeionization (EDI) system ay patuloy na nag-aalis ng natitirang ionic contaminants nang walang chemical regeneration, na nagpapawala sa panganib ng secondary contamination na kaugnay sa conventional na ion exchange regeneration.

Sa huli, ang polishing mixed-bed ion exchange system kasama ang terminal ultrafiltration ay gumagawa ng ultrapure water na may stable resistivity na 18.25 MΩ·cm, na lubos na sumasapat sa mga kinakailangan ng advanced semiconductor manufacturing processes.

Kabilang sa pangunahing kagamitan ang:

• Mga fully automatic pretreatment systems
• Mga double-pass anti-fouling reverse osmosis units
• Mga EDI ultrapure water systems
• Mga polishing mixed-bed ion exchange units
• Mga terminal precision filtration systems
• Mga intelligent electrical control systems
• Mga instrumentong pang-monitoring ng kalidad ng tubig online na may mataas na katiyakan

4. Mga Kawastuhan ng Solusyon

Ang solusyon na ito ay partikular na idinisenyo para sa mga advanced na proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor at konstanteng nagpaprodukto ng ultrapure na tubig na sumusunod sa pinakamataas na pamantayan ng industriya.

Ang mga kritikal na parameter ng kalidad ng tubig—kabilang ang TOC, kontaminasyon ng partikulo, silica, at mga trace metal ions—ay eksaktong kinokontrol upang maksimisahin ang yield ng wafer at ang katiyakan ng pagmamanupaktura.

Nagbibigay kami ng mga lubos na nakapasadyang solusyon sa engineering batay sa layout ng cleanroom, proseso ng teknolohiya node, kapasidad ng produksyon, at mga katangian ng hilaw na tubig. Ang mataas na purity na corrosion-resistant na mga tubo, kompakto at skid-mounted na kagamitan, at modular na disenyo para sa pagpapalawak ay epektibong inaalis ang secondary contamination habang binibigyan-daan ang mga susunod na upgrade sa kapasidad.

Ang lahat ng pangunahing kagamitan, mga electrical control system, at mga bahagi ng water treatment ay sertipikado ayon sa mga pamantayan ng CE, UL, at ISO, na nagsisiguro ng pagsunod sa mga internasyonal na regulasyon sa kaligtasan at mga kinakailangan ng semiconductor manufacturing sa buong mundo.

Ang proseso ng maramihang yugto ng paglilinis ay kasama ang isip na pagsubaybay sa kalidad ng tubig at awtomatikong kontrol sa proseso, na nagbibigay ng mahusay na paglaban sa mga pagbabago sa hilaw na tubig habang pinapahaba ang buhay ng serbisyo ng mga membrane, resin, at mga bahagi ng pag-filter.

Ang modular na integrated na disenyo ay kumukontrol sa pangangailangan ng espasyo para sa instalasyon, nagpapabilis sa pag-deploy, at nagbibigay ng napakagandang flexibility para sa pagpapalawak ng semiconductor fab at mga upgrade sa proseso.

5. Mga Sanggunian sa Proyekto at Suportadong Dokumentasyon

Matagumpay naming inihatid ang mga sistema ng ultrapure water para sa semiconductor sa maraming pasilidad ng paggawa ng wafer at mga halaman ng pagsasaayos at pagsusuri ng semiconductor.

Isang representatibong proyekto ang 12-inch Advanced Semiconductor Fab Ultrapure Water (UPW) System, kung saan ang produkto ng tubig ay palaging nananatiling may electrical resistivity na 18.25 MΩ·cm, na sumusunod nang buo sa pinakamataas na mga espesipikasyon ng ultrapure water para sa semiconductor.

Ang sistema ay nagpakita ng maaasahang operasyon nang buong taon, na sumusuporta sa matatag na mataas-na-dami na produksyon ng semiconductor habang matagumpay na napapasa ang parehong factory acceptance testing (FAT) at mga inspeksyon para sa pagsunod sa industriya.

Kasama sa suportadong dokumentasyon:

• Mga patent na may kinalaman sa proseso ng semiconductor UPW
• Mga sertipiko ng CE, UL, at ISO
• Mga ulat ng ikatlong partido na akreditadong pagsusuri sa kalidad ng tubig
• Mga dokumento para sa pagkumpleto at pagtanggap ng proyekto
• Mga sanggunian sa pagganap mula sa benchmark na mga proyekto sa semiconductor

6. Saklaw ng Serbisyo at Proseso ng Pakikipagtulungan

Nagbibigay kami ng komprehensibong EPC turnkey na solusyon para sa mga sistemang ultrapure water (UPW) sa semiconductor, na sumasaklaw sa pagsusuri sa lokasyon, pagsusuri sa kalidad ng likas na tubig, iniharap na engineering ng proseso, disenyo at paggawa ng hindi pamantayang kagamitan, instalasyon, commissioning, pagpapatunay ng sistema, serbisyo sa operasyon at pangangalaga, upgrade ng sistema, at suplay ng mga consumables sa buong buhay ng sistema.

Pamantayan na Proseso ng Pakikipagtulungan

• Pagsusuri sa Lokasyon at Pagsusuri sa Kalidad ng Likas na Tubig – Isinasagawa ang pagsusuri sa lugar, kinukuha ang mga sample ng tubig, at ibinibigay ang komprehensibong ulat sa pagsusuri sa kalidad ng likas na tubig.
• Pasadyang Disenyo sa Inhinyeriya – Lumikha ng natatanging solusyon para sa sistema ng UPW, konpigurasyon ng kagamitan, at komersyal na panukala batay sa mga kinakailangan ng proseso sa semiconductor.
• Paggawa ng Kagamitan at Konstruksyon – Nagsisimula ang pasadyang paggawa ng kagamitan at pag-install sa lugar matapos ang kumpirmasyon ng kontrata.
• Pag-install, Pagpapagana, at Pagpapatunay ng Sistema – Tapusin ang pag-install ng sistema, pag-aayos ng mga parameter, at tuloy-tuloy na pagsusubok hanggang sa parehong maabot nang paulit-ulit ang lahat ng mga pamantayan sa kalidad ng tubig.
• Pagtanggap sa Proyekto at Pagsasanay sa Teknikal – Tulungan sa mga proseso ng pagtanggap sa proyekto at magbigay ng komprehensibong pagsasanay para sa mga operator.
• Matagalang Suporta sa Teknikal – Magbigay ng pansariling pagpapanatili, regular na inspeksyon, optimisasyon ng sistema, mga upgrade sa pagganap, at suporta sa teknikal sa buong buhay ng sistema.