semiconductor-wafer-fab-wastewater-treatment-solution, semiconductor-wafer-fab-wastewater-treatment-solution, /solutions
EN
Air limbah yang dihasilkan dari fabrikasi wafer semikonduktor (Wafer Fab) bersifat sangat kompleks dan terdiri atas berbagai aliran proses. Air limbah ini terutama dihasilkan selama proses etsa wafer, deposisi lapisan tipis, implantasi ion, litografi fotografi, planarisasi mekanis-kimia (CMP), pembersihan asam dan basa, serta pencucian gas buang. Aliran air limbah ini umumnya diklasifikasikan ke dalam lima kategori: air limbah mengandung fluorida, air limbah asam dan basa, air limbah organik, air limbah logam berat, serta konsentrat berkekuatan garam tinggi.
Kontaminan tipikal meliputi fluorida, silikat, senyawa boron dan fosfor, logam berat dalam jejak (seperti tembaga, nikel, dan seng), residu fotoresist, pelarut organik, surfaktan, partikel tersuspensi ultrahalus, serta pengotor koloid.
Limbah cair pabrik wafer semikonduktor ditandai oleh fluktuasi signifikan dalam laju aliran, kondisi asam dan basa yang bergantian, partikel koloid sangat stabil, daya terurai hayati yang rendah, serta potensi tinggi terjadinya pengendapan (scaling) dan korosi. Beberapa logam berat hadir dalam bentuk kompleks logam stabil yang sulit dihilangkan dengan metode pengolahan konvensional.
Selain itu, fasilitas manufaktur semikonduktor tunduk pada standar pembuangan lingkungan dan daur ulang air yang sangat ketat, sehingga menjadikan limbah cair pabrik wafer salah satu aliran limbah industri paling menantang secara teknis untuk diolah.
Pengolahan limbah cair dalam fabrikasi wafer semikonduktor menghadirkan sejumlah tantangan teknis yang sangat khusus.
Logam berat terkompleks dan senyawa fluorida-silikat stabil sulit dihilangkan menggunakan proses pengolahan konvensional, sehingga memenuhi standar pembuangan yang semakin ketat menjadi sulit ketika karakteristik limbah cair mengalami fluktuasi.
Partikel koloid ultrahalus dan residu fotoresist sering menyebabkan akumulasi lumpur, penyumbatan pipa, serta pengotoran membran yang parah, sehingga mengakibatkan seringnya penghentian operasi peralatan yang mengganggu produksi wafer secara terus-menerus.
Karena fabrikasi semikonduktor melibatkan banyak proses manufaktur yang menghasilkan aliran air limbah berbeda, pengolahan terpadu umumnya memerlukan dosis bahan kimia berlebihan dan menghasilkan volume lumpur besar, sehingga menimbulkan biaya operasional dan pembuangan yang tinggi.
Peralatan pengolahan air limbah standar umumnya tidak memiliki ketahanan terhadap korosi, kemampuan anti-pengotoran, serta kebersihan yang dibutuhkan dalam manufaktur semikonduktor, sehingga meningkatkan risiko kontaminasi sekunder.
Selain itu, pabrik semikonduktor terus memperluas kapasitas produksi sambil mempertahankan tata letak ruang bersih yang kompak. Fasilitas konvensional untuk pengolahan air limbah sipil menempati lahan yang luas dan memberikan fleksibilitas terbatas untuk ekspansi di masa depan, sehingga muncul permintaan akan solusi pengolahan air limbah yang sepenuhnya terintegrasi dan disesuaikan.
Untuk mengatasi karakteristik air limbah pabrik wafer semikonduktor yang beragam dan menuntut secara teknis, kami menerapkan proses pengolahan terintegrasi penuh yang terdiri atas:
Pengumpulan Terpisah → Dekompleksasi & Pengkondisian Air → Penghilangan Fluorida & Silika → Koagulasi & Sedimentasi → Pengolahan Biologis → Pemurnian Membran Lanjutan → Pengurangan Volume Konsentrat
Aliran air limbah individual dikumpulkan dan diseimbangkan secara terpisah guna meminimalkan fluktuasi hidrolik serta kualitas air.
Suatu proses dekompleksasi khusus memecah kompleks logam berat stabil sebelum sistem penghilangan fluorida dan silika presisi secara selektif menghilangkan kontaminan khas.
Limbah cair tersebut kemudian menjalani koagulasi dan sedimentasi, diikuti oleh oksidasi lanjutan untuk mendegradasi senyawa organik refraktori.
Suatu sistem pengolahan biologis selanjutnya menghilangkan sisa COD sebelum air melewati sistem Ultrafiltrasi (UF) dan sistem membran Reverse Osmosis (RO) tahan biofouling guna pemurnian lanjutan.
Air daur ulang berkualitas tinggi dipakai kembali dalam proses pembersihan produksi semikonduktor, sedangkan limbah cair terkonsentrasi menjalani reduksi volume lebih lanjut demi pembuangan efisien serta pemulihan sumber daya.
Peralatan inti meliputi:
Solusi ini dirancang khusus untuk mengatasi kondisi limbah cair kompleks yang ditemui di fasilitas fabrikasi wafer semikonduktor.
Proses pengolahan eksklusif secara efektif menghilangkan logam berat, senyawa fluorida-silikat, serta kontaminan organik tahan penguraian, sekaligus secara konsisten menghasilkan air olahan yang memenuhi baik peraturan pembuangan lingkungan maupun persyaratan daur ulang air pabrik.
Kami menyediakan solusi peralatan sepenuhnya disesuaikan berdasarkan tata letak ruang bersih (cleanroom), karakteristik limbah cair, kapasitas produksi, dan ruang pemasangan yang tersedia. Wadah peralatan tahan korosi yang disesuaikan, material tahan aus, saluran aliran anti-mampet, serta peralatan modular ringkas menjamin kinerja optimal dalam kondisi operasional semikonduktor yang menuntut.
Semua peralatan inti, komponen pengendali kelistrikan, dan sistem pengolahan air disertifikasi sesuai standar CE, UL, dan ISO, sehingga memenuhi persyaratan keselamatan dan kepatuhan yang ketat di fasilitas manufaktur semikonduktor canggih di seluruh dunia.
Proses pengolahan terpisah memberikan ketahanan luar biasa terhadap fluktuasi hidrolik dan kualitas air, sehingga secara signifikan mengurangi frekuensi pemeliharaan, pengotoran membran, dan pembentukan lumpur.
Tingkat pemulihan air melebihi 95%, sehingga secara substansial mengurangi konsumsi air tawar dan biaya operasional, sekaligus meningkatkan efisiensi produksi secara keseluruhan.
Desain terintegrasi modular meminimalkan kebutuhan ruang pemasangan, memungkinkan ekspansi masa depan yang fleksibel, serta mendukung operasi sepenuhnya otomatis untuk manufaktur semikonduktor bervolume tinggi dan berkelanjutan.
Kami telah berhasil menyelesaikan proyek pengolahan air limbah untuk beberapa fasilitas fabrikasi wafer semikonduktor berukuran 12 inci dan 8 inci.
Suatu proyek perwakilan adalah Sistem Pengolahan Limbah Cair Komprehensif dan Daur Ulang Air untuk Fasilitas Fabrikasi Wafer Tingkat Lanjut, dengan kapasitas pengolahan 1.200 m³/hari.
Sistem ini telah menunjukkan operasi stabil jangka panjang, berhasil mengatasi permasalahan terkait konsentrasi fluoride dan silika berlebih, logam berat sisa, serta pengotoran membran. Proyek ini lulus inspeksi penerimaan lingkungan maupun verifikasi ketat kualitas air pabrik, sehingga menjamin produksi wafer yang stabil dan kelangsungan operasi manufaktur.
Dokumentasi pendukung meliputi:
Kami menyediakan solusi pengolahan air limbah EPC turnkey yang komprehensif untuk fasilitas fabrikasi wafer semikonduktor, termasuk investigasi lokasi, pengambilan dan analisis sampel air limbah, rekayasa proses yang disesuaikan, desain peralatan non-standar, manufaktur, pemasangan, commissioning, layanan operasi dan pemeliharaan, peningkatan sistem, serta pasokan bahan habis pakai seumur hidup.