Suluhisho la Kutengeneza Maji ya Kuvuruga ya Fab ya Semiconductor

1. Vyanzo vya Maji ya Kupotosha, Uchafuzi wa Kawaida na Tabia za Ubora wa Maji

Maji ya kupotosha yanayotokana na uundaji wa wafer za semiconductor (Wafer Fab) ni ya aina ya kipekee sana na inajumuisha mikondo mingi ya kazi. Yanatokana hasa wakati wa kuchafua wafer, kufanya kifurushi cha kidogo cha film, kuingiza ions, photolithography, kufanya kusawazisha kimkono cha kemikali (CMP), kufanya usafi wa asidi na alkali, na kufuta gesi za moto. Mikondo hii ya maji ya kupotosha huwekwa katika aina tano: maji ya kupotosha yenye fluoride, maji ya kupotosha ya asidi na alkali, maji ya kupotosha ya kiumbo, maji ya kupotosha yenye metali nzito, na maji ya kupotosha ya chanzo kali.

Uchafuzi wa kawaida unajumuisha fluoride, silikati, boroni na fosforu, metali nzito kidogo (kama vile shaba, nikeli, na zinki), mabaki ya photoresist, solventi za kiumbo, surfactants, vichipu vya kidogo sana vya kuvutia, na vichafuzi vya kikoloidi.

Maji ya uvuruga wa kufanya wafer za semiconductor yana sifa za mabadiliko makubwa ya kasi ya mgandamizo, hali za asidi na alkali zinazobadilika, vichipu vya koloidi vinavyoishi kwa ustawi, haivyoziwe kwa urahisi kwa mikakati ya kuzalisha, na uwezekano mkubwa wa kujengwa kwa vinyo vyenye nguvu na uvurugu. Baadhi ya metali nzito ziko katika fomu ya majimbo ya metali yenye ustawi ambayo haiwezi kufutwa kwa urahisi kwa kutumia mikakati ya kusafishia yanayotumika kawaida.

Pia, vituo vya kufanya semiconductor vinashughulikiwa na viwajibikaji vya mazingira vya kutoa maji na kurejelea maji vinavyoleta masharti ya kushindwa sana, ikifanya maji ya uvuruga wa wafer kuwa moja ya vyanzo vya maji ya uvuruga vya viwandani vilivyopaswa kusafishwa kwa teknolojia ya juu zaidi.

2. Changamoto za Wateja Wa Kawaida

Kusafishia maji ya uvuruga wa kufanya wafer za semiconductor ina changamoto za teknolojia zenye ubunifu mkubwa sana.

Metali nzito zilizounganishwa na viungo vya fluoride-silicate vya ustawi ni vigumu kufutwa kwa kutumia mikakati ya kusafishia yanayotumika kawaida, ikifanya kuwa vigumu kufuata masharti ya kutoa yanayozidi kushindwa wakati hali za maji ya uvuruga yana mabadiliko.

Vipartikuli vya kuvunjika vya ukubwa mkubwa sana na mabaki ya photoresist mara nyingi husababisha kukusanyika kwa mchafu, kufunguka kwa mitambo, na uchafuzi mkubwa wa membrane, ukasababisha kupumzika kwa mara nyingi ya vifaa ambavyo hukatiza uzalishaji wa wafer kwa muda mrefu.

Kwa sababu uzalishaji wa semiconductor unaendelea kwa mchakato mingi ya uzalishaji yanayotengeneza maji ya uvuruga tofauti, ushirikiano wa matumizi ya mbinu za kutibu mara moja mara nyingi unahitaji kutoa kemikali kwa wingi sana na kuzalisha kiasi kikubwa cha mchafu, ukasababisha gharama kubwa za uendeshaji na kuvunja.

Vifaa vya kawaida vya kutibu maji ya uvuruga kwa kawaida havina uwezo wa kushinda uvurugu, uwezo wa kuzuia uchafuzi, au u safi unaohitajika katika uzalishaji wa semiconductor, na hivyo kuongeza hatari ya uchafuzi wa pili.

Zaidi ya hayo, vituo vya uzalishaji wa semikondaktori vinazidisha uwezo wa uzalishaji kwa muda mrefu wakishindikiza muundo wa vyumba vya safi vya ukubwa mdogo. Vituo vya kawaida vya kutibu maji ya uvukivu vinaeneka kwenye eneo kubwa na hutoa uwezo mdogo wa kuzidisha baadaye, kama ilivyosababisha mahitaji ya suluhisho za kutibu maji ya uvukivu yanayojengwa kwa kina na yanayotarajiwa kwa kila kituo.

3. Mchakato wa Kutibu na Ufafanuzi wa Vifaa vya Msingi

Ili kutatua tabia tofauti na zinazohitaji ujuzi wa juu za maji ya uvukivu kutoka kwenye vituo vya uzalishaji wa semikondaktori, tunatumia mchakato wa kutibu kwa kina unaofanana na unaojengwa kwa kina unaofanana na:

Kusafisha Kwa Kupangwa → Kukatwa Kwa Uunganisho Na Kurekebisha Maji → Ondoa Fluoride Na Silika → Kuunganisha Na Kuchimba → Kutibu Kwa Mabakteria → Kutibu Kwa Membrani Ya Juu → Kupunguza Kiasi Cha Maji Yaliyokunywa

Majito tofauti ya maji ya uvukivu yanasafishwa na kufanywa usawa kwa kujitenga ili kupunguza mabadiliko ya mgandamizo na ubora wa maji.

Kitendo cha kusafisha kwa ujuzi kinavunja majumu ya metali nzito ambayo ni imara kabla ya mfumo wa kusafisha kwa usahihi wa fluoride na silica kutoa viwango vya uchafu vinavyotofautiana.

Maji ya uvukivu yanakwenda kwenye kitendo cha kugawanya na kusimama, kisha kwa kitendo cha kuvuruga kikubwa ili kuharibu viyeyusha vya kiume vya kisasa.

Mfumo wa kutibu kwa njia ya kimia unazima zaidi COD iliyobaki kabla ya maji kupita kwenye mfumo wa kufiltrisha (UF) na kumbukumbu ya kuvuruga kinyume cha ufouling (RO) kwa usafi wa juu.

Maji ya kurejeshwa ya ubora wa juu hutumika upya katika mifumo ya kusafisha ya uzalishaji wa semiconductor, wakati maji ya uvukivu yenye ukongekano wa juu yanaendelea kupungua kwa kiasi cha kutosha kwa usalama wa kutoa na kurejesha rasilimali.

Vifaa vya msingi vinajumuisha:

• Mifumo ya kusafisha na kusawazisha yanayotofautiana na yanayohifadhi kwa sababu ya kuvuruga
• Vifaa vya kujitenga vya metali nzito
• Vifaa vya kusafisha fluoride kwa ufanisi wa juu
• Mifumo ya kutoa kemikali kwa uangalizi wa akili
• Mifumo ya kuchafua kwa kutumia membra zinazolinda uchafuzi
• Vyombo vya kufuatilia ubora wa maji kwa mtandaoni
• Mifumo ya udhibiti wa umeme ikiwa imezimwa kabisa

4. Faida za Suluhisho

Suluhisho hili limeundwa kwa maudhui ya kipekee ili kushughulikia hali za maji yaliyosumbuliwa yanayopatikana katika vituo vya uzalishaji wa chip za semiconductor.

Mchakato wa kutibu unaofaa unafanya kazi vizuri kufuta metali nzito, viungo vya fluoride-silicate, na vya uchafuzi wa kiume wa kisasa wakati huo huo huproduce maji yaliyoletwa ambayo inakidhi sheria za kutoa maji ya mazingira na mahitaji ya kutumia tena maji ya kituo.

Tunatoa suluhisho ya vifaa vilivyofanywa kwa ajili ya mtu binafsi kulingana na mpangilio wa chumba cha safi, tabia za maji yaliyosumbuliwa, uwezo wa uzalishaji, na nafasi iliyopo ya kusakinisha. Vifaa vilivyofanywa kwa ajili ya mtu binafsi vinavyolinda dhidi ya uvunjaji, vitu vilivyotengenezwa kwa ajili ya kuzuia uvunjaji, vyanzo vya mgongo vya kuzuia kufunga, na vifaa vya mfumo mdogo vinahakikisha utendaji bora chini ya hali ngumu za uendeshaji wa semiconductor.

Vifaa vyote vya msingi, vifungu vya udhibiti wa umeme, na mifumo ya kutibu maji yamehitimishwa kwa kisheria ya CE, UL, na ISO, ikikidhi mahitaji ya juu ya usalama na utii katika viwanja vya uzalishaji wa semiconductor ya juu duniani.

Utaratibu wa kutibu kwa njia ya kujitenga unatoa uwezo mzuri wa kupambana na mabadiliko ya uvimbe na ubora wa maji, ukupunguza kwa kiasi kikubwa tarakimu ya usambazaji, uchafuzi wa membrane, na uzalishaji wa chafya.

Kiwango cha kurudisha maji kinazidi 95%, ukupunguza kwa kiasi kikubwa matumizi ya maji ya kisasa na gharama za uendeshaji wakati huo huo ukibadilisha ufanisi wa jumla wa uzalishaji.

Uundaji wa mfumo wa kipekee unaopangwa kwa sehemu unapunguza nafasi ya kuweka, inaruhusu kuongezeka kwa urahisi baadaye, na inasaidia uendeshaji wa kiotomatiki kamili kwa uzalishaji wa semiconductor unaofanya kazi kwa muda mrefu na kwa kiasi kikubwa.

5. Marejeo ya Mradi na Uthibitisho wa Msaada

Tumeamaliza kwa mafanikio miradi ya kutibu maji ya uvukivu kwa vituo vingi vya uzalishaji wa semiconductor wa 12-inchi na 8-inchi.

Mradi wa mfano ni mfumo wa uwasilishaji wa kina wa maji machafu na upya wa maji kwa ajili ya kituo cha uzalishaji wa wafer cha juu, wenye uwezo wa usimamizi wa 1,200 m³/siku.

Mfumo umeonyesha utendaji wa kudumu unaowezekana na ustawi, ukifanikiwa kutatua matatizo yanayohusiana na kiwango kikubwa cha fluoride na silica, vibaya vya kuvunjika vilivyobaki, na uchafuzi wa membrani. Mradi umepitishwa na ukaguzi wa kubaliwa kwa mazingira na uthibitisho mkali wa ubora wa maji wa kifabirika, kuhakikisha uzalishaji wa wafer wa ustawi na uzalishaji wa kudumu.

Maudhui ya kusaidia yanajumuisha:

• Patent za mifumo ya kampuni ya uwasilishaji wa maji machafu ya semiconductor
• Sahihisho za CE, UL, na ISO
• Ripoti za mtihani wa ubora wa maji zilizohitimishwa na upande wa tatu
• Dokumenti ya kumaliza mradi na kuthibitisha ukubwa wake
• Miradi ya rejea kwa wafabirika wakuu wa semiconductor

6. Kikoa cha huduma na mchakato wa kushirikiana

Tunatoa suluhisho la kutekeleza kwa kikamilifu (EPC) la kusafisha maji ya matumizi, kwa ajili ya vifungu vya kutengeneza wafer za semiconductor, ikiwemo utafutaji wa eneo, kusanya na kuchambua maji ya matumizi, uhandisi wa mchakato uliofungwa kwa kina, ubunifu wa vifaa visivyofuata kanuni, uzalishaji, uwekaji, kuanzisha, huduma za uendeshaji na usimamizi, uboreshaji wa mfumo, na usambazaji wa vitu vya matumizi kwa wakati wote.

Mchakato wa Kushirikiana kwa kawaida

• Uchambuzi wa Eneo na Uchambuzi wa Maji ya Matumizi – Kufanya utafutaji wa moja kwa moja, kusanya sampuli za maji ya matumizi, na kutoa ripoti ya kuchambua ubora wa maji kwa kina.
• Ubunifu wa Mchakato Uliofungwa kwa Kina – Kujenga mchakato maalum wa kusafisha, suluhisho la vifaa vilivyofungwa kwa kina, na mpango wa biashara kulingana na mahitaji ya mchakato wa kutengeneza wafer.
• Uzalishaji wa Vifaa na Ujenzi – Kuanza uzalishaji wa vifaa vilivyofungwa kwa kina na uwekaji wa moja kwa moja baada ya uthibitisho wa mkataba.
• Uwekaji na Kuanzisha – Uwekaji kamili, kuanzisha kwa pamoja, na uendeshaji wa majaribio yanayotumika kwa muda mrefu hadi kufikia kwa mara nyingi malengo ya utendaji wa usafi.
• Kukubali Mradi na Mafunzo ya Teknolojia – Kusaidia katika mchakato wa kukubali kwa mazingira na kutoa mafunzo kamili ya wafanyikazi.
• Msaada wa Teknolojia wa Muda Mrefu – Kutolewa vipimo vya kawaida, usimamizi wa kuzuia matatizo, uboreshaji wa mfumo, uboreshaji wa vifaa, na msaada wa teknolojia wa siku nzima.