Solusyon sa Pagpapalinis ng Tubig na Basura mula sa Pabrika ng Semiconductor Wafer

1. Mga Pinagmulan ng Tubig na Basura, Karaniwang mga Polutante, at mga Katangian ng Kalidad ng Tubig

Ang tubig na nagmumula sa paggawa ng semiconductor wafer (Wafer Fab) ay lubhang kumplikado at binubuo ng maraming daloy ng proseso. Ito ay pangunahing nabubuo habang ginagawa ang etching ng wafer, pag-deposito ng manipis na pelikula, implantasyon ng ion, photolithography, chemical mechanical planarization (CMP), paglilinis gamit ang acid at alkaline, at pag-scrub ng usok. Ang mga daloy ng tubig na ito ay karaniwang nahahati sa limang kategorya: tubig na may fluoride, acidic at alkaline na tubig, organikong tubig, tubig na may heavy metal, at mataas na konsentrasyon ng asin.

Kabilang sa karaniwang kontaminante ang fluoride, silicate, boron at phosphorus na compound, mga bakas ng heavy metal (tulad ng copper, nickel, at zinc), mga sisa ng photoresist, organikong solvent, surfactant, ultrafine na suspended particles, at colloidal na impurities.

Ang tubig na basura mula sa paggawa ng semiconductor wafer ay kilala sa malalaking pagbabago sa daloy nito, kahalumigmigan ng acidic at alkaline na kondisyon, napakatibay na colloidal particles, mahinang biodegradability, at mataas na posibilidad ng pagkakaroon ng scale at corrosion. Ang ilang heavy metals ay umiiral bilang matitibay na metal complexes na mahirap alisin gamit ang karaniwang paraan ng paggamot.

Bukod dito, ang mga pasilidad sa paggawa ng semiconductor ay sumasailalim sa napakahirap na pamantayan sa environmental discharge at water reuse, kaya ang tubig na basura mula sa wafer fab ay isa sa pinakamahirap na uri ng industrial wastewater na dapat gamutin mula teknikal na pananaw.

2. Karaniwang Hamon ng mga Customer

Ang paggamot sa tubig na basura sa semiconductor wafer fabrication ay nagdudulot ng ilang lubhang espesyalisadong teknikal na hamon.

Ang mga complexed na heavy metals at matitibay na fluoride-silicate compounds ay mahirap alisin gamit ang karaniwang proseso ng paggamot, kaya mahirap sumunod sa lalong tumitibay na mga pamantayan sa discharge kapag nagbabago ang mga katangian ng tubig na basura.

Ang mga napakamaliit na colloidal na partikulo at ang mga residuwal na photoresist ay madalas na nagdudulot ng pag-ani ng putik, pagkabara sa mga tubo, at matinding pagkabara sa membrane, na nagreresulta sa madalas na pagpapahinto ng kagamitan na nakakagambala sa tuloy-tuloy na produksyon ng wafer.

Dahil ang paggawa ng semiconductor ay kasama ang maraming proseso ng pagmamanupaktura na gumagawa ng iba't ibang daloy ng wastewater, ang pagsasama-sama ng paggamot ay kadalasang nangangailangan ng labis na dosis ng kemikal at lumilikha ng malalaking dami ng putik, na humahantong sa mataas na gastos sa operasyon at pagtatapon.

Ang karaniwang kagamitan para sa paggamot ng wastewater ay kadalasang kulang sa kakayahang tumutol sa corrosion, kakayahang pigilan ang fouling, at kalinisan na kinakailangan para sa paggawa ng semiconductor, na nagpapataas ng panganib ng sekondaryang kontaminasyon.

Bukod dito, patuloy na pinapalawak ng mga semiconductor fab ang kanilang kapasidad sa produksyon habang pinapanatili ang kompakto nilang layout ng cleanroom. Ang mga konbensyonal na pasilidad para sa sibil na paggamot ng wastewater ay kumukuha ng malalaking espasyo at nagbibigay ng limitadong fleksibilidad para sa hinaharap na pagpapalawak, na lumilikha ng pangangailangan para sa mga solusyon sa paggamot ng wastewater na buong nai-integrate at nakapasok sa mga partikular na pangangailangan.

3. Proseso ng Paglilinis at Konpigurasyon ng Pangunahing Kagamitan

Upang tugunan ang iba’t ibang katangian at teknikal na kahilingan ng wastewater mula sa semiconductor wafer fab, ginagamit namin ang isang buong nai-integrate na proseso ng paggamot na binubuo ng:

Hiwalay na Koleksyon → Pagkakabukod ng Kompleks at Pag-aayos ng Tubig → Pag-alis ng Fluoride at Silica → Pagpapakulay at Pagpapahinga → Biyolohikal na Paggamot → Advanced na Membrane Purification → Pagbawas ng Dami ng Concentrate

Ang bawat stream ng wastewater ay kinokolekta at ineequalize nang hiwalay upang mabawasan ang mga pagbabago sa daloy ng tubig at kalidad nito.

Ang isang nakalaan na proseso ng decomplexation ang nagpapabagal sa matatag na mga kompleks ng heavy metal bago ang isang tiyak na sistema ng pag-alis ng fluoride at silica na selektibong tinatanggal ang mga katangian ng kontaminante.

Ang wastewater ay dumaan sa coagulation at sedimentation, kasunod nito ang advanced oxidation upang pabagalin ang mga organikong compound na mahirap alisin.

Ang isang biological treatment system ang karagdagang nag-aalis ng natitirang COD bago dumaloy ang tubig sa isang Ultrafiltration (UF) system at isang anti-fouling Reverse Osmosis (RO) membrane system para sa mas mataas na antas ng paglilinis.

Ang high-quality reclaimed water ay muling ginagamit sa mga proseso ng paglilinis sa semiconductor production, samantalang ang concentrated wastewater ay dinaanan pa sa karagdagang volume reduction para sa epektibong disposal at resource recovery.

Kabilang sa pangunahing kagamitan ang:

• Mga corrosion-resistant segregated collection at equalization systems
• Mga reaktor para sa pag-alis ng heavy metal complexes
• Mga high-efficiency fluoride removal reactors
• Mga intelligent na sistema para sa dosing ng kemikal
• Mga sistema ng membrane filtration na anti-fouling
• Mga instrumentong pang-monitoring ng kalidad ng tubig online
• Mga fully automated electrical control systems

4. Mga Kawastuhan ng Solusyon

Ang solusyon na ito ay partikular na idinisenyo upang tugunan ang kumplikadong kondisyon ng wastewater na kinakaharap sa mga pasilidad ng paggawa ng semiconductor wafer.

Ang eksklusibong proseso ng paggamot ay epektibong nag-aalis ng mga heavy metals, fluoride-silicate compounds, at refractory organic contaminants habang palagiang nagpaprodukto ng tinreatong tubig na sumasapat sa parehong mga regulasyon sa environmental discharge at mga kinakailangan sa pag-uulit ng paggamit ng tubig sa planta.

Nagbibigay kami ng mga solusyon sa kagamitan na lubos na nakakatugon sa mga pangangailangan batay sa layout ng cleanroom, mga katangian ng wastewater, kapasidad ng produksyon, at available na espasyo para sa instalasyon. Ang mga nakakatugon sa pangangailangan na corrosion-resistant na kagamitan, wear-resistant na materyales, anti-clog na daloy ng tubig, at compact modular na kagamitan ay nagsisiguro ng optimal na pagganap sa ilalim ng mahigpit na kondisyon ng operasyon ng semiconductor.

Ang lahat ng pangunahing kagamitan, mga bahagi ng elektrikal na kontrol, at mga sistema ng paggamot sa tubig ay sertipikado ayon sa mga pamantayan ng CE, UL, at ISO, na sumasapat sa mahigpit na mga kinakailangan sa kaligtasan at pagsunod ng mga pasilidad sa paggawa ng semiconductor sa buong mundo.

Ang hiwa-hiwalay na proseso ng paggamot ay nagbibigay ng mahusay na resistensya laban sa mga pagbabago sa daloy ng tubig at kalidad nito, na nagpapababa nang malaki ng kadalasang pagpapanatili, pagkakahalo ng membrana, at paglikha ng putik.

Ang mga rate ng pagbawi ng tubig ay lumalampas sa 95%, na nagpapababa nang malaki ng pagkonsumo ng tubig na matinik at mga gastos sa operasyon habang pinapabuti ang kabuuang kahusayan ng produksyon.

Ang modular at integrated na disenyo ay nagpapabawas ng kinakailangang espasyo para sa instalasyon, nagbibigay ng fleksibilidad para sa hinaharap na paglalawak, at sumusuporta sa ganap na awtomatikong operasyon para sa tuluy-tuloy at mataas na dami ng paggawa ng semiconductor.

5. Mga Sanggunian sa Proyekto at Suportadong Dokumentasyon

Matagumpay naming natapos ang mga proyekto ng paggamot sa wastewater para sa maraming pasilidad sa paggawa ng semiconductor wafer na may sukat na 12-inch at 8-inch.

Isang halimbawa ng proyekto ang Komprehensibong Sistema ng Pagpapakinabang sa Tubig at Paglilinis ng Tubig para sa isang Advanced Wafer Fabrication Facility, na may kakayahang maglinis ng 1,200 m³/araw.

Ang sistemang ito ay nagpakita ng matatag na operasyon sa mahabang panahon, na matagumpay na nalutas ang mga isyu tungkol sa labis na konsentrasyon ng fluoride at silica, natitirang heavy metals, at membrane fouling. Ang proyekto ay pumasa sa parehong environmental acceptance inspections at mahigpit na factory water quality verification, na nagsisiguro ng matatag na produksyon ng wafer at tuloy-tuloy na operasyon ng pagmamanupaktura.

Kasama sa suportadong dokumentasyon:

• Mga patent na proseso sa paglilinis ng semiconductor wastewater
• Mga sertipiko ng CE, UL, at ISO
• Mga ulat ng ikatlong partido na akreditadong pagsusuri sa kalidad ng tubig
• Mga dokumento para sa pagkumpleto at pagtanggap ng proyekto
• Mga proyektong sanggunian para sa mga nangungunang semiconductor manufacturers

6. Saklaw ng Serbisyo at Proseso ng Pakikipagtulungan

Nagbibigay kami ng kumpletong EPC turnkey na solusyon para sa paggamot ng tubig na basura para sa mga pasilidad ng paggawa ng semiconductor wafer, kabilang ang pagsusuri sa lokasyon, pagkuha at pagsusuri ng mga sample ng tubig na basura, pasadyang proseso ng inhinyeriya, disenyo ng di-karaniwang kagamitan, paggawa, pag-install, pagsisimula, serbisyo sa operasyon at pangangalaga, upgrade ng sistema, at suplay ng mga konsumable sa buong buhay ng sistema.

Pamantayan na Proseso ng Pakikipagtulungan

• Pagsusuri sa Lokasyon at Pagsusuri ng Tubig na Basura – Isinasagawa ang pagsusuri sa lugar, kinukuha ang mga sample ng tubig na basura, at ibinibigay ang isang kumpletong ulat sa pagsusuri ng kalidad ng tubig.
• Pasadyang Disenyo ng Inhinyeriya – Lumilikha ng natatanging proseso ng paggamot, pasadyang solusyon sa kagamitan, at komersyal na panukala batay sa mga kinakailangan ng proseso ng paggawa ng wafer.
• Paggawa ng Kagamitan at Konstruksyon – Nagsisimula ang pasadyang paggawa ng kagamitan at pag-install sa lugar matapos ang kumpirmasyon ng kontrata.
• Pag-install at Pagpapagana – Kumpletong pag-install, pinagsamang pagpapagana, at patuloy na pagsusubok hanggang sa lahat ng mga layunin sa paggamot ay maabot nang paulit-ulit.
• Pagsasaprobahan ng Proyekto at Pagsasanay sa Teknikal – Tumulong sa mga proseso ng pagsasaprobahan sa kapaligiran at magbigay ng komprehensibong pagsasanay para sa mga operator.
• Pangmatagalang Suporta sa Teknolohiya – Magbigay ng regular na inspeksyon, pansugpuhang pagpapanatili, optimisasyon ng sistema, upgrade ng kagamitan, at suporta sa teknolohiya 24/7.