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Le acque reflue generate dalle fabbriche di wafer per semiconduttori (Wafer Fab) sono estremamente complesse e costituite da più flussi di processo. Vengono prodotte principalmente durante l’incisione dei wafer, la deposizione di film sottili, l’implantazione ionica, la fotolitografia, la piallatura chimico-meccanica (CMP), la pulizia con acidi e basi e la depurazione dei gas di scarico. Questi flussi di acque reflue sono generalmente suddivisi in cinque categorie: acque reflue contenenti fluoro, acque reflue acide e basiche, acque reflue organiche, acque reflue contenenti metalli pesanti e concentrati ad alta salinità.
Gli inquinanti tipici comprendono fluoruri, silicati, composti di boro e fosforo, tracce di metalli pesanti (come rame, nichel e zinco), residui di fotoresist, solventi organici, tensioattivi, particelle sospese ultrafini e impurità colloidali.
Le acque reflue provenienti dagli impianti di fabbricazione di wafer semiconduttori si caratterizzano per notevoli fluttuazioni della portata, alternanza di condizioni acide e basiche, particelle colloidali altamente stabili, scarsa biodegradabilità e un elevato potenziale di incrostazioni e corrosione. Alcuni metalli pesanti sono presenti sotto forma di complessi metallici stabili, difficili da rimuovere mediante metodi convenzionali di trattamento.
Inoltre, gli impianti di produzione di semiconduttori devono rispettare standard ambientali estremamente rigorosi per quanto riguarda lo scarico e il riutilizzo dell’acqua, rendendo le acque reflue degli impianti di fabbricazione di wafer una delle correnti industriali più tecnicamente impegnative da trattare.
Il trattamento delle acque reflue negli impianti di fabbricazione di wafer semiconduttori presenta diverse sfide tecniche altamente specializzate.
I metalli pesanti complessati e i composti fluoruro-silice stabili sono difficili da rimuovere con i processi convenzionali di trattamento, rendendo problematico il rispetto di norme di scarico sempre più stringenti quando le caratteristiche delle acque reflue subiscono variazioni.
Particelle colloidali ultrafini e residui di fotoresist causano spesso accumulo di fanghi, ostruzioni delle tubazioni e grave intasamento delle membrane, con conseguenti arresti frequenti dell’attrezzatura che interrompono la produzione continua di wafer.
Poiché la fabbricazione di semiconduttori prevede numerosi processi produttivi che generano flussi diversi di acque reflue, il trattamento combinato richiede spesso dosaggi eccessivi di prodotti chimici e produce grandi volumi di fanghi, comportando costi elevati di esercizio e smaltimento.
Le attrezzature standard per il trattamento delle acque reflue generalmente non possiedono la resistenza alla corrosione, la capacità anti-intasamento e il livello di pulizia richiesti per la produzione di semiconduttori, aumentando il rischio di contaminazione secondaria.
Inoltre, gli impianti di produzione di semiconduttori ampliano continuamente la propria capacità produttiva mantenendo layout compatti delle camere bianche. Le tradizionali strutture civili per il trattamento delle acque reflue occupano ampie superfici e offrono limitata flessibilità per futuri ampliamenti, generando una domanda di soluzioni integrate e personalizzate per il trattamento delle acque reflue.
Per affrontare le caratteristiche eterogenee e tecnicamente impegnative delle acque reflue provenienti dagli impianti di fabbricazione di wafer per semiconduttori, utilizziamo un processo di trattamento completamente integrato composto da:
Raccolta separata → Decomplessazione e condizionamento dell’acqua → Rimozione di fluoro e silice → Coagulazione e sedimentazione → Trattamento biologico → Purificazione avanzata mediante membrane → Riduzione del volume del concentrato
I singoli flussi di acque reflue vengono raccolti e equalizzati separatamente per ridurre al minimo le fluttuazioni idrauliche e qualitative.
Un processo dedicato di decomplessazione rompe i complessi stabili di metalli pesanti prima che un sistema di rimozione precisa di fluoruri e silice elimini selettivamente i contaminanti caratteristici.
Le acque reflue subiscono quindi coagulazione e sedimentazione, seguite da ossidazione avanzata per degradare i composti organici refrattari.
Un sistema di trattamento biologico elimina ulteriormente il COD residuo prima che l’acqua passi attraverso un sistema di ultrafiltrazione (UF) e una membrana anti-incrostante ad osmosi inversa (RO) per una purificazione avanzata.
L’acqua rigenerata di alta qualità viene riutilizzata nei processi di pulizia della produzione di semiconduttori, mentre le acque reflue concentrate subiscono un’ulteriore riduzione del volume per uno smaltimento efficiente e il recupero delle risorse.
L'attrezzatura principale comprende:
Questa soluzione è progettata specificamente per affrontare le complesse condizioni delle acque reflue riscontrate negli impianti di fabbricazione di wafer per semiconduttori.
Il processo di trattamento proprietario rimuove efficacemente metalli pesanti, composti fluoruro-silicati e contaminanti organici refrattari, producendo costantemente acqua trattata conforme sia ai regolamenti ambientali per lo scarico sia ai requisiti aziendali per il riutilizzo dell’acqua.
Forniamo soluzioni di attrezzature completamente personalizzate in base alla disposizione della cleanroom, alle caratteristiche delle acque reflue, alla capacità produttiva e allo spazio disponibile per l’installazione. Gli alloggiamenti personalizzati delle attrezzature resistenti alla corrosione, i materiali resistenti all’usura, i canali di flusso anti-intasamento e le attrezzature compatte modulari garantiscono prestazioni ottimali anche nelle severe condizioni operative tipiche dei semiconduttori.
Tutte le attrezzature principali, i componenti elettrici di controllo e i sistemi di trattamento dell’acqua sono certificati secondo gli standard CE, UL e ISO, soddisfacendo così i rigorosi requisiti di sicurezza e conformità richiesti dalle più avanzate fabbriche mondiali di produzione di semiconduttori.
Il processo di trattamento separato garantisce un’eccellente resistenza alle fluttuazioni idrauliche e della qualità dell’acqua, riducendo in modo significativo la frequenza di manutenzione, l’ostruzione delle membrane e la produzione di fanghi.
I tassi di recupero idrico superano il 95%, riducendo in modo sostanziale il consumo di acqua dolce e i costi operativi, migliorando nel contempo l’efficienza complessiva della produzione.
La progettazione modulare integrata riduce al minimo lo spazio richiesto per l’installazione, consente un’espansione futura flessibile e supporta un funzionamento completamente automatizzato per la produzione continua e su larga scala di semiconduttori.
Abbiamo completato con successo progetti di trattamento delle acque reflue per numerose fabbriche di wafer semiconduttori da 12 pollici e da 8 pollici.
Un progetto rappresentativo è un Sistema Integrato di Trattamento delle Acque Reflue e di Riutilizzo Idrico per una Fabbrica Avanzata di Wafer, con una capacità di trattamento di 1.200 m³/giorno.
Il sistema ha dimostrato un funzionamento stabile a lungo termine, risolvendo con successo i problemi legati alle concentrazioni eccessive di fluoro e silice, ai metalli pesanti residui e all’incrostazione delle membrane. Il progetto ha superato sia le ispezioni ambientali di accettazione sia la rigorosa verifica della qualità dell’acqua in fabbrica, garantendo una produzione stabile di wafer e operazioni produttive continue.
La documentazione di supporto comprende:
Forniamo soluzioni complete chiavi-in-mano EPC per il trattamento delle acque reflue negli impianti di fabbricazione di wafer per semiconduttori, compresi sopralluogo sul sito, campionamento e analisi delle acque reflue, ingegneria di processo personalizzata, progettazione di apparecchiature non standard, produzione, installazione, messa in servizio, servizi di esercizio e manutenzione, aggiornamenti del sistema e fornitura continua di consumabili per tutta la vita utile.