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Os efluentes provenientes da fabricação de lâminas de silício fotovoltaico são gerados principalmente durante o corte das lâminas, a texturização e a limpeza, o polimento ácido e alcalino, a remoção de adesivos, o resfriamento do corte das lâminas e a limpeza das instalações. Representam a maior fonte de efluentes em todo o processo produtivo de lâminas de silício.
Diferentemente dos efluentes de células solares, os efluentes de lâminas de silício caracterizam-se por elevado teor de flúor, alta concentração de sílica, alta turbidez e alternância entre correntes de efluentes ácidos e alcalinos.
Os poluentes típicos incluem flúor, sílica coloidal em suspensão (SiO₂), sais ácidos e alcalinos, resíduos traços de fluidos de corte e íons de dureza, como cálcio e magnésio. Embora o nível geral de DQO seja relativamente baixo, os efluentes contêm uma concentração excepcionalmente elevada de sílica coloidal.
O volume de águas residuais é substancial e está sujeito a grandes flutuações hidráulicas. As águas residuais provenientes do corte de wafers contêm grandes quantidades de partículas finas de silício que se sedimentam facilmente e causam incrustações. A descarga alternada de águas residuais ácidas e alcalinas de limpeza resulta em flutuações drásticas de pH e aumento contínuo da salinidade. Sem tratamento adequado, podem ocorrer incrustações severas, entupimento de membranas e concentrações excessivas de fluoretos no efluente tratado.
Os sistemas de tratamento de águas residuais devem cumprir os regulamentos aplicáveis sobre descarga industrial de águas residuais e as normas de reutilização de águas residuais tratadas.
O tratamento de águas residuais na indústria de wafers de silício apresenta diversos desafios altamente especializados.
Os processos convencionais de tratamento são geralmente ineficazes na remoção de sílica coloidal ultrafina, resultando em sedimentação lenta, acumulação de lodo em tanques de equalização, entupimento severo de membranas e substituição prematura das membranas.
As tecnologias tradicionais de remoção de flúor também apresentam adaptabilidade limitada às condições variáveis de águas residuais, aumentando o risco de exceder os limites de descarga de flúor.
A fabricação de wafers de silício exige grandes volumes de água para processos, enquanto os sistemas convencionais de tratamento frequentemente alcançam taxas relativamente baixas de recuperação de água, resultando em alto consumo de água potável e custos operacionais elevados.
Além disso, equipamentos padronizados de tratamento são frequentemente inadequados para as condições operacionais altamente ácidas, alcalinas, propensas à formação de incrustações e corrosivas da fabricação de wafers, levando a falhas frequentes de equipamentos e maiores exigências de manutenção.
À medida que a capacidade de produção continua a expandir-se, as instalações convencionais de tratamento civil de águas residuais exigem grandes áreas de instalação e oferecem flexibilidade limitada para atualizações de capacidade, tornando-as inadequadas para a moderna fabricação contínua e em larga escala de wafers de silício.
Para resolver as características de alto teor de sílica, alto teor de flúor e alta turbidez das águas residuais de wafers de silício, empregamos um processo de tratamento consolidado composto por:
Coleta Separada → Coagulação para Remoção de Sílica e Flúor → Amaciamento de Água → Filtração de Precisão → Reutilização Avançada de Água por Membranas → Redução do Volume de Concentrado
As águas residuais turvas de corte de wafers e as águas residuais ácidas/ alcalinas de processo são coletadas e equalizadas separadamente para minimizar flutuações hidráulicas e na qualidade da água.
Um sistema dedicado de coagulação e sedimentação desestabiliza a sílica coloidal enquanto remove eficientemente o flúor.
A água tratada passa então por filtração em areia e filtração com carvão ativado para remover sólidos suspensos residuais e contaminantes orgânicos em traços.
Finalmente, um sistema de ultrafiltração (UF) combinado com um sistema de membrana de osmose reversa (RO) anti-incrustação produz água reutilizável de alta qualidade, adequada para limpeza de wafers e aplicações de refrigeração.
O concentrado remanescente é submetido a processos adicionais de redução de volume, garantindo a operação estável a longo prazo de todo o sistema de tratamento.
Equipamentos principais incluem:
Nossa solução foi projetada especificamente para a indústria fotovoltaica de wafers de silício, oferecendo soluções direcionadas para remoção de sílica, remoção de fluoreto e prevenção de incrustações, ao mesmo tempo em que fornece consistentemente água tratada que atende tanto aos requisitos de descarga quanto aos de reutilização na produção.
Oferecemos equipamentos totalmente personalizados e não padronizados, projetados conforme a capacidade da planta, as características das águas residuais, o espaço disponível para instalação e as condições operacionais. Carcaças reforçadas com proteção anticorrosiva, tubulações resistentes ao desgaste e estruturas de filtração antidispersão são especificamente concebidas para as condições de alto fluxo, alta corrosividade e abrasividade encontradas na fabricação de wafers de silício, melhorando significativamente a confiabilidade do equipamento e sua vida útil.
Todos os sistemas elétricos principais, equipamentos mecânicos e componentes de tratamento de água são certificados conforme as normas CE, UL e ISO.
Essas certificações internacionalmente reconhecidas garantem alta segurança operacional, conformidade regulatória e aceitação fluida tanto para projetos domésticos quanto internacionais.
Nossa tecnologia proprietária de remoção de sílica no pré-tratamento elimina eficazmente a obstrução de membranas por coloides, reduzindo significativamente a frequência de manutenção e prolongando a vida útil das membranas.
O sistema alcança taxas de reutilização de água superiores a 95%, reduzindo substancialmente o consumo de água potável e os custos associados ao descarte de efluentes.
Seu design modular integrado minimiza os requisitos de espaço para instalação, ao mesmo tempo que permite expansão futura flexível. A operação inteligente totalmente automatizada reduz os requisitos de mão de obra e garante operação estável e de longo prazo, atendendo às rigorosas normas de conformidade ambiental.
Concluímos com sucesso diversos projetos de tratamento de águas residuais para importantes fabricantes de wafers de silício fotovoltaicos e possuímos ampla experiência no tratamento de águas residuais de wafers de silício e na reutilização de água.
Um projeto de referência é o Projeto de Tratamento de Águas Residuais e Reutilização de Água para Corte e Limpeza de Wafers de Silício de 15 GW, com capacidade de tratamento de 1.500 m³/dia.
O sistema operou de forma confiável a longo prazo, resolvendo completamente os problemas relacionados ao acúmulo de pó de silício, incrustação nas membranas e concentrações excessivas de fluoreto. O projeto passou com sucesso nas inspeções de aceitação ambiental, economizando mais de 350.000 m³ de água doce anualmente.
A documentação de apoio inclui:
Oferecemos soluções completas de tratamento de águas residuais sob modelo EPC chave-na-mão para fabricantes de wafers de silício, abrangendo investigação in loco, análise da qualidade da água, engenharia de processos personalizada, projeto de equipamentos não padronizados, fabricação, instalação, colocação em operação, apoio à conformidade ambiental, serviços de operação e manutenção, bem como projetos de atualização de sistemas.
