cmp-slurry-wastewater-treatment-solution, cmp-slurry-wastewater-treatment-solution, /solutions
EN
Air sisa slurri CMP (Perataan Mekanikal Kimia) merupakan air sisa proses penting yang dihasilkan semasa pembuatan wafer semikonduktor. Ia terutamanya berasal daripada pemolesan mekanikal kimia (CMP), pembersihan wafer selepas CMP, pelepasan slurri terpakai, dan operasi mencuci lantai bilik bersih.
Berbanding air sisa industri konvensional, air sisa slurri CMP menunjukkan ciri-ciri yang sangat khusus. Pencemar utama terdiri daripada zarah penggosok silika (SiO₂) dan seria (CeO₂) berskala nano, bersama-sama ion logam surih seperti kuprum (Cu) dan aluminium (Al), bahan penceraian slurri pemoles, perencat kakisan benzotriazol (BTA), serta asid dan alkali baki.
Air sisa dicirikan oleh kekeruhan yang sangat tinggi dan zarah koloid yang luar biasa stabil. Disebabkan saiz zarah yang ultra-halus, pepejal terampung sukar untuk mendapan dan tidak dapat dipisahkan secara berkesan menggunakan teknologi rawatan konvensional. Walaupun jumlah COD keseluruhan relatif rendah, air sisa ini menunjukkan kelikatan yang tinggi, potensi pengendapan yang ketara, serta perubahan kualiti air yang kerap, menjadikan penyumbatan paip dan pengotoran membran cabaran operasi yang biasa.
Selain itu, pembuatan semikonduktor memerlukan air kitar semula ultra-tulen yang memenuhi spesifikasi air proses yang sangat ketat, dengan keperluan kualiti air jauh melebihi piawaian penggunaan semula air sisa industri konvensional.
Rawatan air sisa CMP membentangkan beberapa cabaran teknikal yang sangat khusus dan unik kepada pembuatan semikonduktor.
Koloid silika berskala nano yang stabil sukar diasingkan menggunakan proses pemendapan konvensional, menyebabkan pengumpulan lumpur, pendaraban membran yang teruk, penggantian membran secara kerap, dan penghentian sistem secara tidak dirancang yang secara langsung menjejaskan kesinambungan pengeluaran wafer.
Baki bahan kimia pemoles dan logam berat dalam jejak mungkin menimbulkan risiko ketidaksesuaian alam sekitar jika tidak diasingkan sepenuhnya.
Oleh sebab kemudahan pembuatan semikonduktor memerlukan air daur ulang berkualiti sangat tinggi, sistem rawatan air konvensional sering tidak mampu mencapai kualiti air yang diperlukan secara konsisten, mengakibatkan kadar daur ulang air yang rendah dan peningkatan kos operasi.
Peralatan rawatan air sisa piawai umumnya tidak direka untuk ciri-ciri sisa air slurri CMP yang mempunyai kelikatan tinggi dan zarah ultra-halus, serta memberikan rintangan tersumbat dan kakisan yang tidak mencukupi.
Selain itu, loji semikonduktor kerap memperluas kapasiti pengeluaran, manakala sistem rawatan konvensional mengambil ruang yang luas dan memberikan kelenturan terhad kepada peningkatan kapasiti. Akibatnya, penyelesaian rawatan air sisa bersepadu dan tersuai khusus untuk pembuatan semikonduktor canggih semakin diperlukan.
Untuk mengatasi cabaran utama air sisa CMP—termasuk koloid stabil, zarah ultra-halus, dan pendaraban membran—kami menggunakan proses rawatan khusus yang terdiri daripada:
Pengumpulan Terpisah → Penyesuaian Air Secara Tepat & Pengkoagulan → Penggumpalan & Pemendapan Berkecekapan Tinggi → Penurasan Secara Tepat → Pemurnian Membran Lanjutan → Penggunaan Semula Air Ultra-Tulen
Air sisa CMP dikumpul secara berasingan dan diseimbangkan untuk mengekalkan keadaan rawatan yang stabil.
Penyesuaian pH yang tepat mengganggu kestabilan zarah koloid, manakala sistem koagulasi dan flokulasi berprestasi tinggi mengumpulkan dan memendapkan zarah abrasif berskala nano dengan cepat.
Selepas pendapan, kebanyakan pepejal terampung dan kontaminan koloid diasingkan sebelum air melalui penapisan tepat dan penyerapan arang aktif, menghilangkan sebarang sebatian organik baki dan bendasing logam surih.
Akhirnya, sistem Penurasan Ultra (UF) yang digabungkan dengan sistem membran Osmosis Songsang (RO) tahan pengotoran memberikan pendesalinan dan pembersihan lanjutan, menghasilkan air kitar semula berkualiti tinggi yang sesuai untuk proses penggilapan dan pencucian wafer.
Peralatan utama termasuk:
Penyelesaian ini direkabentuk khusus untuk sisa cecair CMP semikonduktor, secara berkesan mengatasi isu paling mencabar dalam industri ini, termasuk pemisahan koloid yang sukar dan pelapukan membran yang teruk.
Proses rawatan eksklusif ini secara cekap mengeluarkan zarah silika ultra-halus, logam berat dalam jejak, dan baki kontaminan organik sambil secara konsisten menghasilkan air yang dipulihkan yang memenuhi piawaian penggunaan semula air proses semikonduktor.
Kami menawarkan penyelesaian peralatan sepenuhnya tersuai yang disesuaikan dengan persekitaran bilik bersih semikonduktor, susun atur loji, dan ciri-ciri sisa cecair. Saluran aliran tersuai anti-sumbat, badan peralatan tahan kakisan, dan struktur penapisan ketepatan memastikan prestasi optimum di bawah keadaan operasi sisa cecair CMP yang mencabar.
Semua sistem kawalan elektrik utama, peralatan mekanikal, dan komponen rawatan air disahkan mengikut piawaian CE, UL, dan ISO, mematuhi keperluan keselamatan antarabangsa bagi kemudahan pembuatan maju di Eropah dan Amerika Utara.
Sistem ini menunjukkan rintangan yang sangat baik terhadap turun naik tekanan hidraulik dan kualiti air, secara ketara mengurangkan pendaraban membran, kekerapan penyelenggaraan, dan masa henti peralatan.
Kadar pemulihan air melebihi 95%, secara ketara mengurangkan penggunaan air tawar dan kos operasi.
Reka bentuk terkamir modularnya meminimumkan ruang pemasangan sambil membenarkan pengembangan fleksibel pada masa hadapan. Operasi pintar sepenuhnya automatik menyokong keperluan pengeluaran berterusan dan berketepatan tinggi di kemudahan fabrikasi wafer semikonduktor moden.
Kami telah berjaya menyiapkan beberapa projek rawatan air sisa slurri CMP untuk kilang fabrikasi wafer semikonduktor.
Satu projek wakil ialah Projek Kitar Semula Air Sisa CMP Fabrik Wafer Semikonduktor 12 inci, dengan kapasiti rawatan 1,000 m³/hari.
Sistem ini telah menunjukkan operasi stabil jangka panjang, sepenuhnya menyelesaikan isu-isu berkaitan pengumpulan koloid, pendaraban membran, dan kualiti efluen yang tidak stabil. Air yang dikitar semula secara konsisten memenuhi piawaian penggunaan semula air ultra-murni semikonduktor dan berjaya lulus pemeriksaan kepatuhan alam sekitar serta ujian penerimaan kilang.
Dokumentasi sokongan termasuk:
Kami menyediakan penyelesaian EPC siap guna yang komprehensif untuk rawatan air sisa slurri CMP, merangkumi tinjauan tapak, pengambilan sampel dan analisis air sisa, kejuruteraan proses tersuai, rekabentuk peralatan bukan piawai, pembuatan peralatan, pemasangan, penyusunan, operasi dan penyelenggaraan, peningkatan sistem, serta bekalan bahan habis pakai sepanjang hayat.