cmp-slurry-wastewater-treatment-solution, cmp-slurry-wastewater-treatment-solution, /solutions
Ombi
Ombi

Suluhisho la Kuhudumia Maji ya Kupotea ya Slurry ya CMP

Suluhisho la Kuhudumia Maji ya Kupotea ya Slurry ya CMP

1. Vituo vya Maji ya Kupita, Uchafuzi wa Kawaida na Sifa za Maji

Uji wa maji ya kusafisha (CMP) ni maji ya kusafisha muhimu yanayotokana na utengenezaji wa mabegani ya semiconductor. Yanatokana kubwa zaidi kutoka kwa kusafisha kimakini (CMP), kusafisha baada ya CMP, kutoa uji wa kusafisha uliotumika, na kufuta madirisha ya chumba cha safi.

Kulinganisha na maji ya kusafisha ya viwanda vya kawaida, uji wa maji ya kusafisha unazo sifa maalum sana. Vipengele vya uchafuzi vya msingi ni vichipu vya nano-silika (SiO₂) na ceria (CeO₂), pamoja na viungo vya metali vidogo kama vile shaba (Cu) na aluminium (Al), vinyororo vya uji wa kusafisha, vikundu vya kuzuia uvimbe (BTA), na asidi na alkali zilizobaki.

Maji ya kusafisha yanajulikana kwa uchafuzi mkubwa sana na vichipu vya kollodi vya kudumu sana. Kwa sababu ya ukubwa mdogo sana wa vichipu, vitu vilivyovunjika vinaweza kupungua vizuri na hawakupatikana kufungwa kwa teknolojia za kusafisha zinazotumika kawaida. Ingawa jumla ya COD ni ya chini kiasi kikubwa, maji ya kusafisha yana upepo wa juu, uwezekano mkubwa wa kujengwa kwa madudu, na mabadiliko mara kwa mara ya ubora wa maji, ambayo huwachanganya wafanyabiashara kwa kuzungukwa kwa mitambo na kuchafuka kwa membrane.

Zaidi ya hayo, utengenezaji wa semikondaktori unahitaji maji ya kupitia tena yenye usafi wa juu sana ambayo inafanana na mahitaji ya juu sana ya maji ya kutekelezwa, na mahitaji ya ubora wa maji yanayopita kwa muda mrefu yale ya kutumia tena maji ya uvuruga ya viwandani vya kawaida.

2. Changamoto za Wateja Wa Kawaida

Kutibu maji ya uvuruga ya CMP ina changamoto za teknolojia zenye ubunifu mkubwa zinazotokana na utengenezaji wa semikondaktori tu.

Koloidi za silika ya kisanduku cha nano zinazosimama ni ngumu sana kufutwa kwa kutumia mbinu za kawaida za kusimama, bila hivyo kusababisha kukusanyika kwa mlango, uchafuzi mkubwa wa membrane, ubadilishaji mara kwa mara wa membrane, na kuvunjika kwa mfumo kwa njia isiyotarajwa ambayo husababisha usio wa uendelezaji wa uzalishaji wa wafer.

Chemicals za kufinyanga zilizobaki na metali nzito kidogo zinaweza kusababisha hatari za kufuata sheria za mazingira ikiwa hazifutwi kabisa.

Kwa sababu vifaa vya kuzalisha viwango vya juu vya semikondaktori vinahitaji maji ya kupatwa tena yenye utakatifu mkubwa sana, mifumo ya kawaida ya kutibu maji mara nyingi hayawezi kufikia ubora wa maji unao hitajika kwa ufanisi, bila hivyo kusababisha kiwango cha chini cha kutumia tena maji na gharama za uendeshaji zinazozidi.

Vifaa vya kawaida vya kutibu maji ya uvukivu haivunjiki kwa kina kwa ajili ya maji ya uvukivu ya CMP yenye visingilio vya kuvuka kwa uwezo wa kuvunja na vya vitu vya kidogo sana, bila hivyo kutoa uwezo wa kuzuia kuvunjika na upotevu wa kuvunja.

Pia, vituo vya uzalishaji wa semikondaktori vinazidisha mara kwa mara uwezo wa uzalishaji, wakati mifumo ya kutunza ya kawaida inachukua eneo kubwa na haipatwi uwezo wa kubadilisha uwezo wa uzalishaji kwa urahisi. Kwa hiyo, suluhisho za kutunza maji ya uvutio zinazotengenezwa kwa ajili ya uzalishaji wa semikondaktori ya kisasa zinahitajika zaidi na zaidi.

3. Mchakato wa Kutibu na Ufafanuzi wa Vifaa vya Msingi

Ili kutatua changamoto kuu za maji ya uvutio ya CMP—kama vile koloidi zenye ustawi, vichwa vya ukubwa mdogo sana, na kufuata kwenye membra—tunatumia mchakato maalum wa kutunza unaofanywa kama ifuatavyo:

Kusafisha Kwa Kupangwa → Kufanya Maji Ya Kupanga Na Kuchanganya → Kufanya Ukuaji Wa Kuvutia Na Kufanya Uhamisho → Kufanya Filtration Ya Kupanga → Kutunza Kwa Membrana Ya Kilele → Kutumia Tena Maji Ya Ukubwa Wa Kilele

Maji ya uvutio ya CMP yanasafishwa kwa upangaji wa kipekee na kusawazishwa ili kudumisha hali ya kutunza zenye ustawi.

Kubo la pH kwa usahihi unaharibu uwezo wa kushirikiana wa vichipu vya koloidi, wakati mfumo wa kushirikiana na kufanya ujumbe una uwezo mkubwa unajumuisha na kufanya vichipu vya abrasioni vya ukubwa wa nano kwa haraka.

Baada ya kuvunjika, sehemu kubwa ya vitu vilivyovunjika na vichipu vya kollodi huondolewa kabla ya maji kupita kwa filadi ya usafi wa kina na kuvutwa kwa karboni iliyofanywa ukuaji, ikiondoa viungo vya kiume vilivyobaki na vya metali ndogo sana.

Hatimaye, mfumo wa Ultrafiltration (UF) uliounganishwa na mfumo wa Reverse Osmosis (RO) wenye uwezo wa kupambana na kuchafuka unatoa usafi wa juu na kutoa maji ya kusafishwa ya ubora wa juu inayofaa kwa kufinyanga na kusafisha vitu vya silikon.

Vifaa vya msingi vinajumuisha:

  • Mifumo ya kuboresha pH na kuchakata kemikali kwa uangalizi
  • Vifaa vya kushirikiana na kufanya uunganisho kwa ufanisi juu ya viwango
  • Vifaa vya kuchafua kwa usahihi wa juu
  • Mifumo ya kuchafua kwa kutumia membra zinazolinda uchafuzi
  • Mifumo ya kusafiya kwa kutumia karboni iliyosambaa
  • Mifumo ya kutoa kemikali kwa mtindo wa kiotomatiki kabisa
  • Mifumo ya kufuatilia ubora wa maji kwenye mtandaoni kwa usahihi wa juu

4. Faida za Suluhisho

Suluhisho hili limeundwa hasa kwa maji ya uvukivu wa CMP ya semiconductor, ikikabiliana vyema na changamoto kubwa zinazotokana na sekta hii, ikiwemo upungufu wa kugawanya vinywe na uvukivu mkubwa wa membrane.

Mtindo wa kuchafua unaofaa kwa kila mtindo unafuta vitu vya silica vinavyoonekana kwa ukubwa mdogo sana, metali nzito chache, na vyanzo vya kemikali vilivyobaki, wakati huo huo huunda maji yanayoweza kutumika tena na yanayolingana na viwajibikaji vya ubora wa maji ya kufanya kazi katika sekta ya semiconductor.

Tunatoa suluhisho la vifaa vilivyofanyiwa kwa kina kulingana na mazingira ya chumba cha safi cha semiconductor, mpangilio wa kiwanda, na tabia za maji ya uvutaji. Vifaa vilivyofanyiwa kwa kina vinajumuisha kanali za mgandamizo zisizowekwa kwenye kuzunguka, makabati ya vifaa yanayosimama dhidi ya uvunjika, na miundo ya kuchafua kwa usahihi ili kuhakikisha utendaji bora katika hali za maji ya uvutaji zenye masharti magumu.

Mifumo yote ya kudhibiti umeme ya msingi, vifaa vya kimakina, na vipengele vya kutengeneza maji yamehitimu kwa viwango vya CE, UL, na ISO, vikizingatia mahitaji ya usalama ya kimataifa kwa vituo vya uzalishaji wa juu nchini Ulaya na Kaskazini ya Amerika.

Mfumo unademonstrisha uwezo mzuri wa kusimama dhidi ya mabadiliko ya uvutaji wa maji na ubora wa maji, ukupunguza kwa kiasi kikubwa uvunjika wa membrane, mara za kudumisha, na muda wa kupumzika kwa vifaa.

Kiwango cha kurejesha maji kinazidisha zaidi ya 95%, kubadilisha kwa kiasi kikubwa matumizi ya maji ya kawaida na gharama za uendeshaji.

Uundaji wake wa muundo wa vitengo unapunguza nafasi ya kufanya uwekaji wakati huo huo ukurasa wa kuzidisha kwa njia ya urahisi katika baadaye. Uendeshaji wa kisasa wa kiotomatiki unaosaidia mahitaji ya uzalishaji wa muda mrefu na wa usahihi mkubwa wa vifaa vya kujenga wafer za semiconductor.

5. Marejeo ya Mradi na Uthibitisho wa Msaada

Tumeamaliza miradi mingi ya kusafisha maji ya kuvutia (CMP) kutoka kwa vifaa vya kujenga wafer za semiconductor kwa mafanikio.

Mradi mmoja unaofanana ni mradi wa kurejesha maji ya uvutaji wa chuma (CMP) wa kufanya wafu wa semikondaktori ya inchi 12, wenye uwezo wa kutengeneza maji ya 1000 m³ kwa siku.

Mfumo umefanya kazi kwa muda mrefu kwa ustahili, ukasuluhisha tatizo zote zinazohusiana na kusambaa kwa vinyongo, kufuata kwa membrane, na ubora wa maji ya kutoa ambayo haupatikani kwa ustahili. Maji yaliyorejeshwa yanafuata mara kwa mara viwajibikaji vya ubora wa maji ya kisemiconductor ya kipya kabisa na yamepita majaribio ya kuthibitisha ya mazingira na ya kuthibitisha ya kituo.

Maudhui ya kusaidia yanajumuisha:

  • Patenti za mchakato wa kusafisha maji ya kuvutia wa CMP
  • Sahihisho za CE, UL, na ISO
  • Ripoti za kujaribu ubora wa maji kutoka kwa mtu wa nje kwa usahihi wa juu
  • Dokumenti ya kumaliza mradi na kuthibitisha ukubwa wake
  • Miradi ya kurejelea katika sekta ya semiconductor

6. Kikoa cha huduma na mchakato wa kushirikiana

Tunatoa suluhisho kamili ya EPC ya kujaza kila kitu kwa utengenezaji wa maji ya uvutaji wa chuma (CMP), ikiwemo utafutaji wa eneo, kusukuma na kuchambua maji ya uvutaji, uhandisi wa mpango wa kipekee, ubunifu wa vifaa visivyokuwa kwa kawaida, uzalishaji wa vifaa, uwekaji, kuanzisha, uendeshaji na usimamizi, uboreshaji wa mfumo, na usambazaji wa vifaa vya matumizi kwa muda mrefu.

Mchakato wa Kushirikiana kwa kawaida

  • Utafutaji wa Eneo na Kusukuma Maji – Kufanya utafutaji wa eneo kwenye mahali, kusukuma sampuli za maji ya uvutaji, na kutolewa ripoti ya kuchambua ubora wa maji kwa ukamilifu.
  • Uundaji wa Uendeshaji wa Kipekee – Kujenga mchakato wa kushughulikia, suluhisho la vifaa vya kipekee, na mpango wa biashara kulingana na hali ya kufanya kazi ya kifundi cha uundaji.
  • Uzalishaji wa Vifaa na Ujenzi – Anza uzalishaji wa vifaa vya kipekee na ujenzi wa mahali baada ya uthibitisho wa mkataba.
  • Kuweka na Kuanzisha – Omaliza kuweka, kuanzisha pamoja, na uhamisho wa majaribio hadi kufikia ustahili wa kudumu wa mahitaji ya ubora wa maji.
  • Ubainishaji wa Mradi na Mafunzo – Msaidie katika mchakato wa ubainishaji wa mradi na kutoa mafunzo ya wafanyikazi wa kitaaluma.
  • Msaada wa Teknolojia wa Muda Mrefu – Kutolewa vipimo vya kawaida, usimamizi wa kuzuia matatizo, uboreshaji wa mfumo, uboreshaji wa vifaa, na msaada wa teknolojia wa siku nzima.

Pata Ombi la Bure

Wakilishi wetu watawatumia hivi karibuni.
Barua pepe
Jina
Jina la Kampuni
Ujumbe
0/1000